[发明专利]静电卡盘的诊断方法、真空处理装置和存储介质有效
申请号: | 200710181281.5 | 申请日: | 2007-10-26 |
公开(公告)号: | CN101170057A | 公开(公告)日: | 2008-04-30 |
发明(设计)人: | 佐佐木康晴;冈城武敏 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/683;H01L21/02;H01L21/67 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 卡盘 诊断 方法 真空 处理 装置 存储 介质 | ||
1.一种静电卡盘的诊断方法,对设置在真空容器内的载置台上、用于利用静电力对基板进行吸附保持的静电卡盘的调温性能的经时劣化进行诊断,其特征在于,包括:
工序(a),在利用静电卡盘对基板进行吸附保持、并且向基板的背面与静电卡盘的表面之间供给用于调整基板的温度的调温气体的状态下,反复实施对基板进行真空处理的工序;
工序(b),夹着该工序(a),将被静电卡盘吸附保持的基板暴露于使用诊断用的处理方案生成的气氛并且对该基板的温度进行检测,对所述调温气体的压力进行调整,使得温度检测值成为规定温度,并将此时的调温气体的压力值存储在存储部中;和
工序(c),根据所述存储部中存储的调温气体的压力值,对所述静电卡盘的调温性能的劣化进行诊断。
2.如权利要求1所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
所述工序(b)夹着所述工序(a)反复进行。
3.如权利要求2所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
对所述静电卡盘的调温性能的劣化进行诊断的工序(c),根据由反复进行的工序(b)取得的调温气体的压力值的时间序列数据而进行。
4.如权利要求1或2所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
对所述静电卡盘的调温性能的劣化进行诊断的工序(c),包括对调温气体的压力值是否低于设定值进行判断的工序。
5.如权利要求1~4中任一项所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
应用所述诊断用的处理方案的基板是维护用的基板。
6.如权利要求1~5中任一项所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
所述基板的温度的检测由设置在载置台上的温度检测部进行。
7.如权利要求1~5中任一项所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
所述维护用的基板搭载有温度检测部,所述基板的温度由该温度检测部检测。
8.如权利要求7所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
所述温度检测部的温度检测值在将基板从真空容器中搬出后被取得,当基板的温度检测值偏离规定温度时,改变调温气体的压力,再次将所述基板暴露于使用诊断用的处理方案生成的气氛,并取得温度检测值。
9.如权利要求1~8中任一项所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
所述真空处理是使用等离子体的处理。
10.如权利要求1~9中任一项所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
所述静电卡盘的表面在通过喷镀形成电介质的粉末后进行研磨。
11.如权利要求1~9中任一项所述的静电卡盘的诊断方法,其特征在于:
所述静电卡盘的表面由具有与所述基板大致相同的外形的环状凸部、和在该凸部的内周侧形成并形成为与所述凸部相同的高度的多个柱状体构成,所述温度调整用的气体在所述凸部的内周侧的柱状体间流通。
12.一种真空处理装置,用于在向被设置在真空容器内的载置台上的静电卡盘所吸附保持的基板的背面与静电卡盘的表面之间供给用于调整基板的温度的调温气体的状态下,对基板进行真空处理,其特征在于,包括:
对基板的温度进行检测的温度检测部;
对所述调温气体的压力进行检测的压力检测部;
对所述调温气体的压力进行调整的压力调整部;
用于存储该压力检测部的压力检测值的存储部;
执行单元,夹着对多块基板依次实施的真空处理,将被所述静电卡盘吸附保持的基板暴露于使用诊断用的处理方案生成的气氛,并且通过所述压力调整部对调温气体的压力进行调整,使得所述温度检测部的温度检测值成为规定温度,将此时的所述压力检测部的压力检测值存储在存储部中;和
根据所述存储部中存储的调温气体的压力检测值,对所述静电卡盘的调温性能的劣化进行诊断的诊断单元。
13.如权利要求12所述的真空处理装置,其特征在于:
应用所述诊断用的处理方案的基板是维护用的基板。
14.如权利要求12或13所述的真空处理装置,其特征在于:
所述诊断单元根据夹着所述真空处理而取得的调温气体的压力值的时间序列数据,对所述静电卡盘的调温性能的劣化进行诊断。
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