[发明专利]多层基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710181791.2 申请日: 2007-10-29
公开(公告)号: CN101198210A 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 神谷博辉;清水元规;竹内聪 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K1/18;H05K3/46
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多层 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种多层基板(100),包括:

绝缘基底部件(1),其包括多个导电图案(3)和多个树脂膜(10,10a-10f),所述树脂膜(10,10a-10f)由热塑性树脂制成,并且彼此叠置和附着;

电子元件(2),其嵌入在所述绝缘基底部件(1)内且包括与至少一个所述导电图案(3)电耦合的电极(2a);以及

间隔物(20-22),其中:

至少一个树脂膜(10,10b-10e)具有其中插入了所述电子元件(2)的通孔(11);

所述一个树脂膜(10,10b-10e)具有多个突出部件(12),每一个所述突出部件(12)从所述通孔(11)的周围部分突出到所述通孔(11)内;

一个突出部件(12)与另一个突出部件(12)相对,使得所述的一个突出部件(12)和所述另一个突出部件(12)接触所述电子元件(2),并且将所述电子元件(2)夹在中间;并且

所述间隔物(20-22)设置在所述一个树脂膜(10,10b-10e)和相邻树脂膜(10,10a-10f)之间,并且设置在所述突出部件(12)中的一个的基底部分。

2.根据权利要求1所述的多层基板(100),其中:

所述间隔物(20-22)在所述多个树脂膜(10,10a-10f)的叠置方向上比一个树脂膜(10,10a-10f)薄。

3.根据权利要求1或2所述的多层基板(100),其中:

所述间隔物(20-22)由所述导电图案(3)中的一个提供。

4.根据权利要求1或2所述的多层基板(100),其中:

所述间隔物(20-22)由与所述多个树脂膜(10,10a-10f)相同的热塑性树脂制成。

5.根据权利要求1或2所述的多层基板(100),其中:

所述间隔物(20-22)具有围绕所述通孔(11)的近似矩形环的形状。

6.根据权利要求1或2所述的多层基板(100),其中:

所述间隔物(20)包括多个间隔物元件(20),每个所述间隔物元件(20)对应于所述突出部件(12)中的一个,并且所述间隔物部件(20)设置在所述突出部件(12)中的所述一个的基底部分。

7.一种制造多层基板(100)的方法,包括:

制备多个由热塑性树脂制成的树脂膜(10,10a-10f),其中至少一个树脂膜(10,10b-10e)具有用于插入电子元件(2)的通孔(11),而其它树脂膜(10,10a,10f)没有通孔(11),并且所述一个树脂膜(10,10b-10e)还包括多个突出部件(12),每个所述突出部件从所述通孔(11)的周围部分突出到所述通孔(11)内,并且其中一个突出部件(12)与另一个突出部件(12)相对,使得所述一个突出部件(12)和所述另一个突出部件(12)的顶端之间的距离(W1)比所述电子元件(2)的外部尺寸(W2)短;

叠置所述树脂膜(10,10b-10f)和间隔物(20-22),其中所述间隔物(20-22)设置在所述一个树脂膜(10,10b-10e)和相邻树脂膜(10,10a-10f)之间,并且设置在所述突出部件(12)中的一个的基底部分;

通过用所述电子元件(2)挤压所述突出部件(12)的顶端而将所述电子元件(2)按压插入所述通孔(11)内;以及

加热并压制叠层树脂膜(10,10a-10f),从而由所述叠层树脂膜(10,10a-10f)形成绝缘基底部件(1),并且所述电子元件(2)嵌入在所述绝缘基底部件(1)内。

8.根据权利要求7所述的制造多层基板(100)的方法,其中:

叠置所述树脂膜(10,10b-10f)包括通过加热和压制所述叠层树脂膜(10,10b-10f)而使所述树脂膜(10,10b-10f)彼此临时附着;

对所述电子元件(2)的所述按压插入包括在所述临时附着的树脂膜(10,10b-10f)的所述通孔(11)内设置所述电子元件(2);并且

对所述叠层树脂膜(10,10b-10f)的所述加热和压制包括加热和压制所述临时附着的树脂膜(10,10b-10f)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社电装,未经株式会社电装许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710181791.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top