[发明专利]用于测量绘图位置的方法和装置以及绘制图像的方法和装置无效
申请号: | 200710182196.0 | 申请日: | 2007-08-16 |
公开(公告)号: | CN101140427A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | 福田刚志;水本学 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03B27/32 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 张成新 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 测量 绘图 位置 方法 装置 以及 绘制 图像 | ||
1.一种绘图位置测量方法,用于在绘图表面与用于调制入射光和在绘图表面形成绘图点的绘图点形成装置相对彼此移动、并且在相对移动过程中绘图点形成装置在绘图表面顺序形成绘图点以绘制图像时,通过位置测量装置测量绘图点位置,该方法包括步骤:
测量在相对移动过程中由绘图点形成装置形成的每一绘图点和位置测量装置之间的相对位置;和
基于所测量的相对位置确定绘图点位置。
2.一种绘图位置测量方法,用于在绘图表面与用于调制入射光和在绘图表面形成绘图点的绘图点形成装置相对彼此移动、并且在相对移动过程中绘图点形成装置在绘图表面顺序形成绘图点以绘制图像时,通过位置测量装置测量绘图点位置,该方法包括步骤:
测量在相对移动过程中由绘图点形成装置形成的每一绘图点和位置测量装置之间的相对位置偏差;
基于所测量的位置偏差校正由位置测量装置测得的绘图点位置。
3.根据权利要求1所述的方法,其中:
所述位置测量装置包括形成在与绘图表面基本相同的表面上的至少两个狭缝,该至少两个狭缝彼此不平行;和用于检测被绘图点形成装置调制的并且通过该至少两个狭缝的光的检测装置,并且
基于相应于光通过该至少两个狭缝的每一检测时间点的、相对移动的绘图表面的每一位置信息,测量绘图点的位置。
4.根据权利要求2所述的方法,其中:
所述位置测量装置包括形成在与绘图表面基本相同的表面上的至少两个狭缝,该至少两个狭缝彼此不平行;和用于检测被绘图点形成装置调制的并且通过该至少两个狭缝的光的检测装置,并且
基于相应于光通过该至少两个狭缝的每一检测时间点的、相对移动的绘图表面的每一位置信息,测量绘图点的位置。
5.根据权利要求1所述的方法,其中:
所述位置测量装置包括形成在与绘图表面基本相同的表面上的至少三个狭缝,至少其中两个狭缝彼此不平行;和用于检测被绘图点形成装置调制的并且通过该至少三个狭缝的光的检测装置,并且
基于相应于光通过该至少三个狭缝的每一检测时间点的、相对移动的绘图表面的每一位置信息,测量绘图点的位置。
6.根据权利要求2所述的方法,其中:
所述位置测量装置包括形成在与绘图表面基本相同的表面上的至少三个狭缝,至少其中两个狭缝彼此不平行,和用于检测被绘图点形成装置调制的并且通过该至少三个狭缝的光的检测装置,并且
基于相应于光通过该至少三个狭缝的每一检测时间点的、相对移动的绘图表面的每一位置信息,测量绘图点的位置。
7.根据权利要求3所述的方法,其中所述位置测量装置包括多个位置测量装置。
8.根据权利要求3所述的方法,其中所述狭缝形成于玻璃板上。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述狭缝形成于单个玻璃板上。
10.一种用于测量绘图位置的装置,该装置包括:
用于调制入射光和在绘图表面形成绘图点的绘图点形成装置;
用于使得绘图点形成装置和绘图表面相对彼此移动的移动装置;
位置测量装置,用于测量在由移动装置产生相对移动的过程中当绘图点形成装置在绘图表面顺序形成绘图点以绘制图像时的绘图点位置;
相对位置测量装置,用于测量在由移动装置产生相对移动的过程中由绘图点形成装置形成的每一绘图点和位置测量装置之间的相对位置;和
计算装置,用于基于由相对位置测量装置测得的相对位置确定绘图点位置。
11.一种用于测量绘图位置的装置,该装置包括:
用于调制入射光和在绘图表面形成绘图点的绘图点形成装置;
用于使得绘图点形成装置和绘图表面相对彼此移动的移动装置;
位置测量装置,用于测量在由移动装置产生相对移动的过程中当绘图点形成装置在绘图表面顺序形成绘图点以绘制图像时的绘图点位置,该位置测量装置放置于绘图表面上;
位置偏差测量装置,用于测量在由移动装置产生相对移动的过程中由绘图点形成装置形成的每一绘图点和位置测量装置之间的相对位置偏差;和
校正装置,用于基于由位置偏差测量装置测得的位置偏差校正由位置测量装置测得的绘图点位置。
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