[发明专利]清洁介质及使用该清洁介质的干式清洁设备无效
申请号: | 200710185800.5 | 申请日: | 2007-12-17 |
公开(公告)号: | CN101349887A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | 佐藤达哉;冈本洋一;渕上明弘;种子田裕介 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G21/00 | 分类号: | G03G21/00;B08B7/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 介质 使用 设备 | ||
技术领域
本申请涉及一种固体清洁介质,所述固体清洁介质在不使用水或溶剂情况下,去除附在用于电子照相设备(例如复印机和激光打印机)的对象上的粉尘和微粒,例如附在形状复杂部件上的调色剂颗粒;以及一种使用该固体清洁介质的干式清洁设备;尤其涉及一种通过使待清洁对象的连续引入从而达到更高清洁效率的固体清洁介质和干式清洁设备。
背景技术
制造复印机、传真机、打印机等的办公设备制造厂商积极地致力于可循环利用活动,其中,使用过的产品和部件单元被从用户中收集,然后被拆散、清洁并再次装配,作为部件或作为树脂材料循环利用,以建设资源循环利用的社会。为了循环利用用在这些产品和部件单元中的部件,需要一种去除附在被拆散的部件和单元上的微小的调色剂颗粒的工艺,用于清洁的目的。有关上述清洁,其重要议题在于降低成本和环境负荷。
在使用水或溶剂来去除附在部件和单元上诸如调色剂的污物的湿式清洁方法的情况下,对包含调色剂的废液进行处理以及与清洁之后的干燥处理相关的能量消耗,可能会导致在环境措施和节能措施方面的成本增加。
在使用吹气的干式清洁方法的情况下,其清洁动力不足以去除高粘性的调色剂,还需要在随后的诸如手工擦除的处理步骤。因此,在再循环和再利用产品中,清洁被认为是一个瓶颈处理步骤。在使用干冰喷抛(blast)清洁的情况下,大量干冰的使用会导致较高的运行成本和较重的环境负荷。
作为上述问题的一种解决方案,专利文献1公开了一种干式清洁设备,所述设备利用弹性可变形的接触元件在旋转筒中搅动对待清洁的带电对象进行彻底放电,以降低附在所述对象上的粉尘的粘附力,并从而从所述对象中去除粉尘。
专利文献2公开了一种使用干性清洁介质的清洁方法。在该方法中,用于电子照相工艺中的显影剂(载体)被用作一种清洁介质,附在待清洁对象上的调色剂颗粒通过被吸附到清洁介质上而去除,由此实现干式清洁。
此外还使用了一种专利文献3和专利文献4中所公开的抛丸(Shot blasting)技术。在专利文献3中公开的技术为,通过将不锈微球或小的不锈件喷射在对象上来从待清洁对象中去除外部物质。在专利文献4中公开的技术为,通过利用高速气流使粒状固体碰撞树脂容器表面来从树脂容器中去除污物。
专利文献5公开了一种干式清洁设备。根据专利文献5,吸附颗粒的微粒清洁介质被导入待清洁的容器中,然后清洁喷嘴被插入该容器的开口中。清洁喷嘴在清洁容器中提供高速气流以吹动清洁介质,所述清洁介质去除粘附在清洁容器内表面上的颗粒。清洁介质与附在清洁喷嘴上的网孔相碰撞,使得网孔通过过滤来分离附在清洁介质上的颗粒并从而使清洁介质再生。气流吹动已再生的清洁介质,从而反复地清洁容器。
专利文献5的设备同时执行吹动清洁介质的操作和通过抽吸再生清洁介质的操作。
此外,专利文献6至10公开了一种使用柔性清洁介质的喷抛清洁技术,以避免在清洁期间毁坏待清洁对象或使待清洁对象产生变形。
专利文献11公开了一种使用薄的清洁介质的清洁方法,以实现更高的清洁效率。
专利文献1:日本专利登记No.3288462
专利文献2:未审公开的日本专利公开No.2003-122123
专利文献3:日本专利登记No.2889547
专利文献4:日本专利登记No.3468995
专利文献5:未审公开的日本专利公开No.2005-329292
专利文献6:未审公开的日本专利公开No.2004-106100
专利文献7:未审公开的日本专利公开No.60-188123
专利文献8:未审公开的日本专利公开No.04-059087
专利文献9:日本实用新型登记No.2515833
专利文献10:未审公开的日本专利公开No.07-088446
专利文献11:未审公开的日本专利公开No.2007-29945
在专利文献1的干式清洁设备中,由搅动带来的接触元件的冲力不足够高到去除高粘性的粉尘的程度。
专利文献2的干式清洁设备需要改进清洁介质的清洁度来改进清洁质量。气体循环(旋风方法)的离心分离效果对于所述目的来说,其分离动力是不足的。此外,为了改进清洁质量,在清洁介质吸附并保持住调色剂之后,有必要反复地替换清洁介质,从而导致清洁的低效以及需要大量的清洁介质。
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