[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

照射系统，其被构造用于调节辐射束；

支架，其被构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将在其横截面上的图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；

衬底台，其被构造用于保持衬底；

投影系统，其被构造用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以及

涂洒器，用于将分子施加到图案形成装置的夹持区域上。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述涂洒器包括用于湿化图案形成装置的夹持区域的加湿器。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述加湿器被包含在支架中。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述加湿器包括在支架的夹持区域中的出口，以将包括水蒸气的气体引导到图案形成装置的夹持区域。

5.根据权利要求4所述的光刻设备，其中，所述加湿器还包括排放进口，用于将由出口提供的气体的至少一部分引导出来。

6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，构造所述加湿器，以使得由出口提供的气体量至少等于由排放进口引导出的气体量。

7.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，所述支架的夹具包括真空夹具，所述排放进口是夹具的真空抽吸进口。

8.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，所述支架的夹具包括真空夹具，所述支架包括当保持图案形成装置时用于形成真空夹具的真空室的凹陷，所述加湿器在图案形成装置被传送给支架时经由出口提供一定量的气体以大致填充所述真空室。

9.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述加湿器被包含在光刻设备的存储装置中，所述存储装置用于在图案形成装置被传送给支架之前存储图案形成装置。

10.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述加湿器被包含在图案形成装置处理机械手中，所述图案形成装置处理机械手用于将图案形成装置从存储装置传送到支架。

11.根据权利要求2所述的光刻设备，还包括调节器，所述调节器被构造成：当图案形成装置被辐射束辐射时，至少调节邻接图案形成装置的表面的空间，所述调节器用于提供在空间中几乎没有湿气的环境。

12.根据权利要求2所述的光刻设备，还包括存储装置调节器，用于至少调节在适于存储图案形成装置的存储装置中的空间，所述空间在图案形成装置存储在存储装置中时邻接图案形成装置的表面，所述图案形成装置的所述表面被辐射束辐射。

13.一种用于在光刻设备中保持图案形成装置的方法，所述方法包括步骤：

将分子施加到图案形成装置的夹持区域上；以及

将图案形成装置的夹持区域夹持到光刻设备的支架上，所述支架被构造用于支撑图案形成装置。

14.一种器件制造方法，包括步骤：

采用支架支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将其横截面上的图案赋予辐射束、以形成图案化的辐射束；

将图案化的辐射束投影到衬底上；

对衬底进行显影；

由经过显影的衬底制造器件；以及

在图案形成装置被支架支撑之前，将分子施加在图案形成装置的夹持区域上。

15.一种器件制造方法，包括步骤：

调节辐射束；

将分子施加在图案形成装置的夹持区域上，所述图案形成装置能够将其横截面上的图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；

将图案形成装置夹持在支架上；以及

将图案化的辐射束投影到衬底上。

16.根据权利要求15所述的方法，进一步包括步骤：当图案形成装置被辐射束辐射时，至少调节邻接图案形成装置的表面的空间，所述调节器用于提供在空间中几乎没有湿气的环境。