[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1、一种基板处理装置，包括：

容纳基板的处理腔；

支撑所述基板的固定框架；

沿与所述固定框架的端部的纵向平行的方向传送所述固定框架的进料单元，其中所述进料单元与所述固定框架端部接触；以及

从所述基板的各个侧面间隔分开以供给处理流体到所述基板的供给单元。

2、如权利要求1所述的基板处理装置，还包括沿与所述各个侧面垂直的方向支撑所述固定框架的支撑构件。

3、如权利要求1所述的基板处理装置，其中所述固定框架包括：

第一部分，该第一部分包含第一底部表面和与所述第一底部表面垂直的侧表面，其中所述第一部分包含容纳空间；以及

第二部分，该第二部分包含与所述第一底部表面相应并容纳在所述容纳空间中的第二底部表面。

4、如权利要求3所述的基板处理装置，其中所述进料单元包含滚轮，该滚轮具有与所述侧表面的宽度相应的凹槽。

5、如权利要求1所述的基板处理装置，其中处理流体包括蚀刻剂、清洗液和气体中的至少一种。

6、如权利要求1所述的基板处理装置，其中所述各个侧面与所述处理腔的底部表面垂直。

7、如权利要求1所述的基板处理装置，其中所述各个侧面与所述处理腔的底部表面平行。

8、如权利要求1所述的基板处理装置，其中所述供给单元包括：

处理流体通过其流动的供给管；和

连接到所述供给管以供给所述处理流体到所述基板的供给构件。

9、如权利要求8所述的基板处理装置，其中所述供给管配置成向所述固定框架的传送方向倾斜。

10、如权利要求8所述的基板处理装置，其中所述供给管在预定的角度范围内摆动。

11、如权利要求8所述的基板处理装置，其中所述供给管在与所述各个侧面平行的平面上直线地移动。

12、如权利要求8所述的基板处理装置，其中所述供给构件包含多个具有喷射孔的喷射喷嘴。

13、如权利要求8所述的基板处理装置，其中所述供给构件包含至少一个狭缝喷嘴，该狭缝喷嘴包括相互间隔分离的第一主体和第二主体，且所述处理流体通过该第一主体和第二主体之间的空隙流出。

14、如权利要求13所述的基板处理装置，其中所述狭缝喷嘴包含对称连接到从所述供给管分支的管线的第一狭缝喷嘴和第二狭缝喷嘴，且所述第一狭缝喷嘴和第二狭缝喷嘴旋转以供给所述处理流体到所述基板。

15、如权利要求13所述的基板处理装置，其中所述狭缝喷嘴包含形成在所述第一主体和第二主体的至少一个表面上的突出物。

16、如权利要求13所述的基板处理装置，其中所述狭缝喷嘴包含形成在所述第一主体和第二主体至少一个表面和所述第一主体和第二主体的末端上的突出部。

17、一种基板处理装置，包括：

包括固定框架以支撑基板和将基板安装到该固定框架的基板固定单元；

所述固定框架被传送到并在其中对所述基板进行处理的处理腔；以及

从所述固定框架上分离所述基板的基板分离单元，其中

所述处理腔包括：

与所述固定框架的端部接触以沿与所述端部的纵向平行的方向传送所述固定框架的进料单元；以及

从所述基板的各个侧面间隔分开以供给处理流体到所述基板的供给单元。

18、如权利要求17所述的基板处理装置，还包括：

相对于所述传送的方向将所述固定框架旋转90度到被旋转后的位置的第一位置转换器；以及

从所述被旋转后的位置将所述固定框架旋转90度的第二位置转换器。

19、如权利要求17所述的基板处理装置，其中所述处理腔包括：

在其中蚀刻基板的第一处理腔；

在其中清洗基板的第二处理腔；和

在其中干燥基板的第三处理腔。