[发明专利]Bi2LaxV1.6-0.6xO7或Bi2YxV1.6-0.6xO8光催化材料、制备方法及应用无效

专利信息
申请号: 200710191539.X 申请日: 2007-12-12
公开(公告)号: CN101176842A 公开(公告)日: 2008-05-14
发明(设计)人: 栾景飞;赵伟;张继彪;郑正 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: B01J23/22 分类号: B01J23/22;B01J23/18;C02F1/30;C01B3/04
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 代理人: 汤志武;王鹏翔
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: bi sub la 1.6 0.6 光催化 材料 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.Bi2LaxV1.6-0.6xO7或Bi2YxV1.6-0.6xO8(0.8≤x≤1)的光催化剂粉末或薄膜材料。

2.根据权利要求1所述的Bi2LaxV1.6-0.6-xO7或Bi2YxV1.6-0.6-xO8光催化材料,其特征是以N掺杂或S掺杂的Bi2LaxV1.6-0.6xO7或Bi2YxV1.6-0.6xO8(0.8≤x≤1)薄膜,Bi2LaxV1.6-0.6xO7单晶薄膜或Bi2YxV1.6-0.6xO8(0.8≤x≤1)单晶薄膜。

3.Bi2LaxV1.6-0.6-xO7或Bi2YxV1.6-0.6-xO8光催化材料的制备,其特征是采用高温固相烧结的方法制备光催化粉末材料;以纯度为99.99%的Bi2O3、V2O5、La2O3或Y2O3为原材料,并将Bi、V、La或Y以分子式原子比的Bi2O3、V2O5和La2O3或Y2O3混合,然后在球磨机中研磨,粉末的粒径达到1-2微米,在200±20℃烘干4±1小时,压制成片,放入高温烧结炉中烧制。将炉温升至750±20℃,保温6±2小时后随炉冷却,将粉末压片取出粉碎至粒径为0.8-1.6微米,再将这些粉末压制成片,放入高温烧结炉中烧结,最高炉温为750±20℃,保温4±1小时后随炉冷却,将粉末压片取出粉碎至粒径为0.6-1.4微米,再将这些粉末压制成片,放入高温烧结炉中烧结,升温条件如下:

a.20℃至400℃,升温时间为40±10min;b.400℃,保温20±10min;c.400℃至750℃,升温时间为40±10min;d.750℃保温800±100min;e.750℃至920±20℃,升温时间为30±10min;f.920±20℃保温1800±200min,炉冷。

4.Bi2LaxV1.6-0.6-xO7或Bi2YxV1.6-0.6-xO8光催化材料薄膜的制备方法,其特征是:靶材制备:准备纯金属Bi、V、La和Y金属靶材,以及上述制得的两种粉末靶材Bi2LaxV1.6-0.6xO7和Bi2YxV1.6-0.6xO8(0.8≤x≤1);选取YSZ单晶基片、Si基、石英或ITO玻璃作为衬底或在其上生长ITO生长外延薄膜作衬底,采用高真空离子溅射系统或多靶磁控溅射仪生长薄膜。

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