[发明专利]真空吸附器

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空装置，尤其是制造高真空的装置。

背景技术

目前制造真空的办法有喷射负压法，但这类真空度比较低；而吸附法，对于含量在1％的惰性气体无可奈何，这样仍然只能满足要求不太高的真空。采用这些技术的设备都无法制造比较高程度的真空。

发明内容

本发明的任务是提供一种真空程度高的造真空装置。

为实现上述目的，本发明采用的方案是：

一种制造高真空的装置，在密封容器清除气体，其特征在于装置上有两个可以开启的独立吸附室，吸附室内存放有吸附剂，其后设置有一个微型鼓风扇，可以将气体吹向吸附器。

采用上述装置，相比于目前的技术而言，真空度能制造到10～100Pa左右。

具体实施方式

具体实施中，真空方法一般是采用温度低于-5摄氏度99.9％纯度的二氧化碳从容器底部进行缓慢充入，将空气排出，然后采用刚出炉的生石灰进行吸附，这样内部99.9％的气体就被吸附；如果需要特高要求的真空，容器内再次采用金属钾进行吸附，可以将真空度再提高一个数量级。

所以吸附剂为大量生石灰和少量的金属钾，可以分成两个不同的吸附室进行储存，在外部环境中容器封闭，在需要制造真空的环境中才开始开启，通过鼓风机加强吸附。

采用本装置生产的真空，成本比同行水平节约70％成本，同时真空度也能达到10～50Pa的优级真空水平。