[发明专利]涂层钨材

说明书

技术领域

本发明涉及一种钨材，特别是涉及一种涂覆有涂层的高密度钨基材。

背景技术

高密度钨基材料被广泛用于国防军工、机械电子、航天航空、冶金矿山、石油煤炭、钟表饰品等领域。未涂层的钨材存在不耐磨、抗氧化性差、易汗渍腐蚀，以及色彩暗淡等缺陷。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种抗氧化性、耐磨性、耐汗渍腐蚀性和色彩鲜艳性等综合使用性能较高的涂层钨材。

为了解决上述技术问题，本发明提供的涂层钨材，包括钨基材，钨基材的组成为纯钨或W(余量)-2％Ni-1％Fe合金，在所述的钨基材上涂覆有厚度为3-30μm的TiN或Cu(余量)-(15-45)％Zn-(0.1-1.5)％Ni-(0.5-1)％Al₂O₃合金涂覆层。

采用上述技术方案的涂层钨材，由于在钨基材上涂覆有TiN或铜合金涂层，可以在保证钨基材料高的相对密度条件下，有效提高钨基材料表面的抗氧化性、耐磨性、耐汗渍腐蚀性和色彩鲜艳性等综合使用性能，使高密度钨基材料得到更广泛的应用。本发明产品制备简单，成本低廉，适合于常规生产工艺。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本发明作进一步说明。

实施例1：

TiN涂层纯钨。

以相对密度为纯钨理论密度99.9％的纯钨为基材，以CVD或PVD方法涂覆TiN涂层，涂层的厚度为：3μm。

实施例2：

Cu(余量)-(15-45)％Zn-(0.1-1.5)％Ni-(0.5-1)％Al₂O₃合金涂层纯钨。

以相对密度为纯钨理论密度99.9％的纯钨为基材，以PVD方法涂覆Cu(余量)-(15-45)％Zn-(0.1-1.5)％Ni-(0.5-1)％Al₂O₃合金涂层，涂层的厚度为：30μm。

实施例3：

TiN涂层W(余量)-2％Ni-1％Fe合金。

以相对密度为纯钨理论密度97％的W(余量)-2％Ni-1％Fe合金为基材，以CVD或PVD方法涂覆TiN涂层，涂层的厚度为：30μm。

实施例4：

Cu(余量)-(15-45)％Zn-(0.1-1.5)％Ni-(0.5-1)％Al₂O₃合金涂层W(余量)-2％Ni-1％Fe合金。

以相对密度为纯钨理论密度97％的W(余量)-2％Ni-1％Fe合金为基材，以PVD方法涂覆Cu(余量)-(15-45)％Zn-(0.1-1.5)％Ni-(0.5-1)％Al₂O₃合金涂层，涂层的厚度为：3μm。