[发明专利]一种日用辊道窑预冷方法及装置

说明书

·技术领域

本发明涉及一种日用陶瓷辊道窑的结构，尤其是指一种日用陶瓷辊道窑防止烟气倒流、精确控制结晶釉制品烧成过程中的最佳保温温度及最佳保温区的温度场控制方法及装置，为日用瓷窑炉技术领域。

·背景技术

目前的日用瓷辊道窑均由建筑陶瓷辊道窑演变而来。建筑陶瓷辊道窑所烧制的产品高度即为该产品的厚度，产品的厚度一般比较稳定，产品离窑顶的距离波动很小。所以，当建筑陶瓷辊道窑各风机调试一定后，在不空窑的情况下，窑内气流一般比较稳定，不易发生烟气倒流；而日用瓷辊道窑进窑产品的高度、进窑产品的稀密程度处于动态的变化之中，窑内气流一般不稳定，极易发生烟气倒流。

烟气倒流影响了产品的釉面质量，加大了产品合理冷却的难度。实际生产中极易发生炸瓷，且出瓷温度偏高；为解决烟气倒流带来的炸瓷问题，目前所采取的技术手段是将最高温度点前移较为有效，但同时也将增加能耗，也制约了窑炉的生产能力。

另一方面，日用瓷结晶釉制品的烧成工艺要求“快烧慢冷”，重点是“慢冷”。所谓慢冷，是指在冷却过程中，应在最佳析晶区保温足够时间。

一般日用瓷结晶釉制品的最佳保温温度比止火温度低100℃左右。操作中最关键的是确定最高温度，稳定最佳保温温度，同时保证保温时间。

目前的日用瓷辊道窑为满足结晶釉制品在烧结过程中析晶的需要，一般利用调节急冷温度的高低及急冷小闸的开度、最高温度点的前后位置、最高温度的高低来满足析晶区保温的时间和冷却阶段的温度场，从而实现对日用瓷结晶釉制品的结晶效果的控制。这种调节方法的弊端在于：

①结晶釉制品的最佳保温温度及最佳保温区的温度场的稳定性差。

由于进窑产品的高度及进窑产品的稀密程度、窑炉的排烟和余热系统的波动，尽管稳定了最高温度，但结晶釉制品的最佳保温温度及最佳保温区的温度场仍然处在动态的波动之中，不能有效的“事先”加以精确控制，导致结晶釉制品的结晶效果的不稳定。

②、不便于调节最佳保温区的压力制度。

传动的日用瓷辊道窑设有一定长度急冷过度区。但在该区几乎没有可调节的手段，若该区的压力波动时，则要通过调节排烟、余热、急冷及最高温度点的前后位置来实现。这样调节起来很不方便，“滞后”时间长。

因此，改进日用瓷辊道窑防止烟气倒流、精确控制结晶釉制品的最佳保温温度及最佳保温区的温度场控制方法，研发一种新型的日用瓷辊道窑结构，具有重要的现实意义。

·发明内容

本发明所要解决的技术问题是：针对目前日用瓷辊道窑烟气倒流及冷确效果不好的问题，提供一种可有效防止烟气倒流的日用瓷辊道窑预冷气流输入方法。该方法能防止烟气倒流，充分挖掘窑炉的生产能力，节能降耗。

本发明的另一目的是在上述方法的基础上，通过对气流输入的控制，实现精确控制结晶釉制品的最佳保温温度及最佳保温区的温度场，保证结晶釉制品的最佳保温温度及最佳保温区的温度场的相对稳定，且保证最佳保温区的压力制度调整的便利，满足日用瓷结晶釉制品的烧成。

本发明的另一目的是提供一种上述两种方法的装置。

本发明的第一个目的是通过下述技术方案实现的：一种日用瓷辊道窑，在辊道窑急冷过度区前端的辊上部设置预冷空气喷咀，预冷空气通过喷咀喷入辊道窑内，并在辊道窑急冷过度区形成一道隔离气幕墙，防止烟气倒流。

本发明的第二个目的是通过下述技术方案实现的：在日用瓷辊道窑急冷过度区前端的辊上部设置隔离气幕墙，使得预冷空气通过气幕喷入辊道窑内，并通过一套自动(或手动)控制装置对气幕墙的气流进行自动控制，通过气流的大小调节结晶釉制品的最佳保温温度、最佳保温区的温度场及压力。