[发明专利]准分子光照射器

说明书

技术领域

本发明涉及一种准分子光照射器，使用于对如液晶面板基板、半导体晶片、磁盘基板、光盘基板等玻璃、半导体、树脂、陶瓷、金属等、及将这些合成的基板表面照射紫外光，进行清洁、刻蚀等时的基板处理。

背景技术

在半导体或液晶基板等的制造工序中，紫外光广泛利用于清洁等基板处理。作为这种技术，例如公知有日本专利公开2003-275576号公报等。在该公报中，记载了搭载有准分子光照射器的基板处理装置，将从该准分子光照射器放射的200nm以下、100nm以上的范围的紫外光，在氧存在的氛围下照射在被处理物的表面，通过产生的活性氧与透过的紫外光的作用效果，使被处理物表面的有机物等分解飞散，从而进行清洁。

图5表示具有现有的准分子光照射器的基板清洁装置的概略构造图。该图5是在与大致棒状的准分子灯504的灯管轴正交的面切断的装置的概略剖视图。该基板清洁装置501由准分子光照射器502、和基板传送机构503构成。该准分子光照射器502由并排配置多根的大致棒状的准分子灯504、具备该准分子灯504的灯箱505、与该灯箱505相邻并向该准分子灯504供给电力的电装部506、以及照射从该准分子灯504放射的准分子光的窗部507构成。此外，基板传送机构503由处理室510、传送作为被照射物的基板508的传送辊环509、以及检测出该基板508传送到及传出处理室510的位置传感器511，512构成。在该基板清洁装置501中，基板508从基板传送方向的上游侧被传送到下游侧(图中箭头方向)。之后，通过从该准分子光照射器502的该准分子灯504放射的准分子光，氛围中的氧被活化，并且照射直接到达该基板508的准分子光，从而进行有机物等的分解清洁。

在这种基板清洁装置中，根据基板传送速度、处理基板的种类、及污染状态等，所需要的处理能力不同，根据需要选择搭载的准分子光照射器的处理能力。

由于构成灯的玻璃材料的劣化、来自玻璃材料等的放出气体微量存在于放电气体中等，来自该准分子灯的光输出随点亮时间的延长而衰减。为了实现即使光输出衰减，处理能力也不会不足，一般，以灯寿命末期的光输出为基准来决定被配置于该准分子光照射器的该准分子灯的灯数。在此，该准分子灯的寿命是指，以额定功率点亮的该准分子灯的光输出相对于初期衰减到一定输出(例如初期的70％)，或该准分子灯由于放电管的破坏等无法点亮的情形，寿命末期的光输出是指，例如从衰减到初期的70％的光输出的该准分子灯放射的光输出的情形。

此外，在这种基板清洁装置中，配置于准分子光照射器中的该准分子灯通过以下几种控制方法点亮。

(1)作为第1控制方法，始终以额定输入点亮准分子灯。

(2)作为第2控制方法，初期例如以额定输入的80％左右的低输入点亮，随着光输出的降低，每次调整灯点亮电力，从而输出一定以上的光输出。

(3)作为第3控制方法，检测光输出，对点亮电源进行反馈控制，从而将光输出保持在一定。

在任何使用方法的情况下，当灯达到寿命时，处理能力均不足，需要更换灯，一般在灯泡每次达到寿命时实施灯的更换。

一般，灯具有固有的特性偏差，在准分子光照射器上安装的多个灯同时到达寿命的情况非常罕见。以往，在安装了多个的准分子灯的一根到达寿命时，大多停止基板处理装置，更换所有灯。但是，近年来，为了追求运转成本的经济性，逐根更换达到寿命的灯。

在更换灯时，必须停止基板处理装置，由于更换不定期到达寿命的灯导致的基板处理装置的停止，成为导致降低生产工厂整体的运转率的原因之一，而成为很大的问题。尤其是，近年来的液晶产业界价格竞争非常激烈，为了提高生产效率与生产能力，强烈要求提高装置运转率。

专利文献1：日本专利公开2003-275576号

发明内容

本发明是为应对相关需求而提出，提供一种准分子光照射器，检测出基板处理装置搭载的准分子光照射器上配置的准分子灯中寿命到期的该准分子灯，补充不足的光输出，从而实质上不必停止基板处理装置，并且可有助于提高制造装置的运转率。

本发明的一种准分子光照射器，搭载在具有传送基板的传送机构，并照射准分子光，对基板进行处理的基板处理装置上，其特征在于：该准分子光照射器，相对基板传送方向成大致直角地并排配置多根大致棒状的准分子灯，具有可独立调整各准分子灯的输出的供给电源，具有检测各该准分子灯的光输出的检测功能，具有光输出补充功能，在来自至少一根该准分子灯的光输出未达到规定的输出时，补充与不足的光输出相当的光输出。