[发明专利]月面形貌环境综合模拟试验场及其模拟方法

权利要求书

1.一种月面形貌环境的综合模拟试验场，其包括密闭黑空间的月面形貌模拟区、光照模拟系统、背景环境模拟系统、月面土壤和地形地貌模拟系统，其中，所述试验场内的光照模拟系统包括于所述模拟区的内部墙体上设置的模拟日光斜射的照明灯，其功率不小于4Kw，以及散布在模拟区四周墙体或顶部上的多个功率不小于1.2Kw的照明灯，以实现日光直射无阴影的效果；所述背景环境模拟系统包括幕布，该幕布选择喷绘月表环形山和深空背景；所述月面土壤和地形地貌模拟系统包括将月面复杂的形貌简化为斜坡，坑和石块的典型地形，然后利用模拟月壤根据已知的月面形貌数据进行构造。

2.如权利要求1所述的综合模拟试验场，其特征在于，所述试验场内的模拟区为矩形或圆形。

3.如权利要求2所述的综合模拟试验场，其特征在于，圆形模拟区的有效试验面积直径在10m以上；或者矩形模拟区的面积在10m×10m以上，无论哪种形状的模拟区，其有效高度要在7m以上。

4.如权利要求1所述的综合模拟试验场，其特征在于，所述模拟日光斜射的照明灯的色温可达5600K。

5.如权利要求1-4任一项所述的综合模拟试验场，其特征在于，所述照明灯为镝灯。

6.如权利要求1-4任一项所述的综合模拟试验场，其特征在于，所述幕布根据登月时间和地点进行计算获得的真实星空背景来选择喷绘月表环形山和深空背景，其大小根据模拟区大小和/或形状进行选择。

7.如权利要求1-4任一项所述的综合模拟试验场，其特征在于，所 述密闭黑空间的月面形貌模拟区由密闭外墙形成，墙体内侧涂有黑色漆。

8.如权利要求7所述的综合模拟试验场，其特征在于，所述黑色漆为黑色亚光漆。

9.如权利要求1-4任一项所述的综合模拟试验场，其特征在于，所述照明灯都配装有挂具，以对灯的照射方向和高度进行调节。

10.如权利要求1-4任一项所述的综合模拟试验场，其特征在于，所述幕布通过设置天牌灯、底牌灯的灯阵把光投射到幕布上或者在幕布后通过设置灯箱来进行背部打光来表现幕布的画面。

11.如权利要求1-4任一项所述的综合模拟试验场，其特征在于，所述月面土壤和地形地貌模拟系统中的斜坡，坑和/或石块的数量根据已知的月面形貌数据进行构造。

12.一种月面形貌环境的综合模拟试验场，其包括圆形模拟区(1)、顶灯(2)、幕布(3)、侧灯(4)、试验区(6)，模拟外区(7)；模拟区(1)内的地面具有模拟月壤构建的月面形貌，顶部设置有模拟日光直射的顶灯(2)，密闭的模拟外区(7)的内壁上设置多个侧灯(4)，每次开启一个，其光线斜射到圆形模拟区内以模拟出斜射的效果，模拟月面背景的幕布(3)围绕圆形模拟区边缘一周进行设置；模拟外区(7)的外部设置试验区(6)，试验区(6)的顶部周边设置导轨，导轨上设置吊车(5)，来搬用物件。

13.如权利要求12所述的综合模拟试验场，其特征在于，模拟外区(7)的内壁上涂有黑色亚光漆，形成密闭的黑空间。

14.如权利要求12或13所述的综合模拟试验场，其特征在于，在模拟区圆心的顶部设置一顶灯，其余顶灯绕圆心均布，其离圆心的距离 要使得能模拟出无阴影的月面光照情况。

15.如权利要求12或13所述的综合模拟试验场，其特征在于，侧灯(4)设置在模拟外区的四个角上，且侧灯(4)的高度、照射角度可进行调节。