[发明专利]灰色调掩模的检查装置及制造方法、图案转印方法

权利要求书

1.一种灰色调掩模的检查方法，当在透明基板上形成包含遮光部、透光部和透过曝光光的一部分的半透光部的图案，通过基于曝光装置的曝光将所述图案转印到被转印体上，从而制造显示装置时使用，

具有经由照明光学系统向所述灰色调掩模照射从光源发出的规定波长的光束，经由物镜系统，由摄像部件对透过该灰色调掩模的光束进行摄像，求出摄像图像数据的步骤，

根据所述摄像图像数据，取得所述灰色调掩模的包含半透光部的区域的透过光强度分布数据。

2.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

作为所述光源，使用发出至少包含g线、h线或i线之一的光束、或者混合其中任意二者以上的光束的光源。

3.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

所述照明光学系统的数值孔径及所述物镜系统的数值孔径分别与所述曝光装置中的照明光学系统的数值孔径及物镜系统的数值孔径大致相等。

4.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

具有根据所述摄像图像数据，取得所述灰色调掩模的包含半透光部、透光部和遮光部的区域的透过光的强度分布数据，

把握所述半透光部的透过光强度与所述透光部或所述遮光部的透过光强度之差及/或比的工序。

5.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

根据由所述摄像图像数据得到的所述灰色调掩模的所述透过光的强度分布数据，把握成为规定阈值以上及/或规定阈值以下的区域的大小，求出使用所述灰色调掩模曝光时被转印的所述遮光部、所述透光部或所述半透光部所对应的图案的尺寸。

6.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

根据由所述摄像图像数据得到的所述灰色调掩模的所述透过光强度分布数据，把握成为规定阈值以上及/或规定阈值以下的区域的有无及该区域的大小，对使用所述灰色调掩模曝光时被转印的缺陷的有无和转印时的大小进行检测。

7.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

所述灰色调掩模中的半透光部具有一个或一个以上与所述遮光部邻接的区域，

通过得到所述半透光部的与所述遮光部邻接的区域的透过光强度分布数据，求出曝光装置中透过该区域的曝光光的光强度及由该曝光光转印的图案的形状。

8.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

所述灰色调掩模中的半透光部具有所述曝光装置的曝光条件的分辨率界限以下的细微图案，通过调节所述物镜系统和所述摄像部件至少一方的光轴方向的位置，得到该细微图案被散焦后变为非分辨状态的摄像图像数据。

9.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

所述灰色调掩模被进行白缺陷或黑缺陷的修正。

10.根据权利要求1所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

所述灰色调掩模中的半透光部在所述透明基板上形成有半透光膜。

11.根据权利要求10所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

所述灰色调掩模被进行白缺陷或黑缺陷的修正。

12.根据权利要求11所述的灰色调掩模的检查方法，其特征在于：

所述白缺陷或黑缺陷的修正通过形成组成与所述半透光膜不同的修正膜来进行。

13.一种液晶装置制造用灰色调掩模的制造方法，其特征在于：

具有基于权利要求1～12中任意一项所述的灰色调掩模的检查方法的检查工序。

14.一种图案转印方法，使用由权利要求13所述的液晶装置制造用灰色调掩模的制造方法制造的液晶装置制造用灰色调掩模，由曝光装置曝光规定波长的光，将图案转印到被转印体上。