[发明专利]流体压力缸有效

专利信息
申请号: 200710196775.0 申请日: 2007-12-06
公开(公告)号: CN101220822A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 德本潮人 申请(专利权)人: SMC株式会社
主分类号: F15B15/14 分类号: F15B15/14
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张兆东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 流体 压力
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种流体压力缸,在该流体压力缸中,活塞在加压流体供给作用下沿着轴向移动。

背景技术

迄今为止,一种在其中具有一个在加压流体供给作用下移动的活塞的流体压力缸已经被使用,例如用于传送各种工件和类似物的传送装置。

在这种流体压力缸中,提供了一种活塞可移动地设置在缸内腔内部的结构,所述缸内腔被限定在管形缸体的内部,并且气缸盖罩和杆盖分别安装在缸体两端之上并从而封闭缸内腔。

这种流体压力缸,例如在日本未审公开专利出版物NO.09-303320中所公开的,使用一个活塞,其在截面上形成椭圆形同时其主轴对准在水平方向上。也通过使用一个形成椭圆形的缸内腔,公知地提供一种在其中安装有活塞的缸体,其具有薄的形状和低的轮廓。另外,在流体压力缸中,气缸盖罩和杆盖通过多个螺栓都被装配在缸体的两端之上,在气缸盖罩和杆盖与缸体之间夹有垫圈。垫圈相应于活塞孔的截面形状在截面上大体上形成椭圆形状。另外,垫圈的各部分被容纳在活塞孔之中并紧靠着活塞孔的内圆周表面,这样垫圈在气缸盖罩和杆盖与缸体之间保持密封状态。

顺带说一下,在日本未审公开专利出版物NO.09-303320所公开的传统技术中,必须在与活塞孔紧靠的垫圈的外圆周表面上进行加工。然而由于垫圈的外圆周表面形成椭圆形的截面形状,所以当沿着其整个的表面进行这样的加工时需要大量的加工费用。结果,流体压力缸的制造成本显著增加了。

另外在根据日本未审公开专利出版物NO.09-303320的传统技术中,因为使用的是这样的结构,即气缸盖罩和杆盖通过多个螺栓都分别被固定在缸体的两端,所以气缸盖罩和杆盖的宽度增加了流体压力缸的长度方向的尺寸,因而增加了流体压力缸的尺寸。

发明内容

本发明的一般目的在于提供一种流体压力缸,其能够减少制造成本,同时使流体压力缸的尺寸最小化。

本发明的上述和其它的目的和优点参照附图从下面的说明中变得更清楚,本发明的最优实施方式通过示例的方式在附图中显示。

附图说明

图1是根据本发明的一个实施例的流体压力缸的外部透视图;

图2是在图1中的流体压力缸的分解透视图;

图3是在图1中的流体压力缸的总体垂直剖视图;

图4是在图3中的流体压力缸的垂直分解剖视图;

图5是从图1中的流体压力缸的气缸盖罩侧看过去的侧视图;

图6是从图1中的流体压力缸的杆盖侧看过去的侧视图;

图7是沿着图3中的线VII-VII的截面视图;

图8是图2中所示的锁环的简单平面视图;

图9是显示根据一个改进的实施例在流体压力缸中安装有锁环的状态的外部透视图;

图10是图9中所示的锁环的一个简单平面视图;

图11是从图9中所示的流体压力缸的气缸盖罩侧看过去的侧视图;

图12是从图9中所示的流体压力缸的杆盖侧看过去的侧视图。

具体实施方式

在图1中,参考标记10指的是根据本发明的一个实施例的流体压力缸。

如图1到4中所示,流体压力缸10包括管形缸筒(缸体)12,安装在缸筒12的一端上的气缸盖罩(覆盖元件)14,安装在缸筒12的另一端上的杆盖(覆盖元件)16,和一个在缸筒12内部的可移动地设置的活塞18。

缸筒12构造成在截面上大体上呈矩形形状,具有一个缸孔(缸内腔)20,其大体上形成椭圆形截面同时在轴向方向上贯穿缸筒12内部。缸孔20在截面上大体上形成椭圆形,以便其主轴大体上位于水平方向(当流体压力缸10位于如图5至7所示的方向时),且在其两个端部上设置有一对凹槽22a,22b,其在远离缸孔20的中心的方向上在宽度上扩大。

这对凹槽22a,22b分别形成在两个端部,以便凹槽22a,22b以弓形凹进并且基本上位于相对于扁平的缸筒12的水平方向上。更特别地,凹槽22a,22b相互面对设置,同时在远离缸孔20的中心的方向上弓形地凹进。凹槽22a,22b的弯曲半径设置得比缸孔20的两个端部上的弯曲半径小。

特别地,缸孔20的内圆周表面这样形成,其使得缸孔20的两个端部只在凹槽22a,22b的部分做得较大。另外,在凹槽22a,22b与沿着缸孔20的轴向方向上的中间区域之间设置有阶梯部24。

另外,环槽(安装槽)26沿缸孔20的内圆周表面分别形成在缸孔20的两个端部上同时面对凹槽22a,22b。锁环(锁定元件)28a,28b被分别安装进环槽26中。

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