[发明专利]图像载体保护剂、保护层形成设备、成像方法、成像装置和处理盒有效
申请号: | 200710199640.X | 申请日: | 2007-12-11 |
公开(公告)号: | CN101201563A | 公开(公告)日: | 2008-06-18 |
发明(设计)人: | 山下昌秀;中井洋志;饭尾雅人;田中真也;尾崎直幸 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G5/147 | 分类号: | G03G5/147;G03G15/00;G03G21/10;G03G21/00;G03G15/02;G03G9/08 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 载体 保护 保护层 形成 设备 成像 方法 装置 处理 | ||
1.一种图像载体保护剂,该保护剂至少含有:熔化性有机化合物,该有机化合物的针入度在25℃下在3毫米至30毫米的范围内,和热分解性有机化合物颗粒,该有机化合物颗粒的重量平均粒度在2微米至20微米的范围内,其中
该有机化合物的熔化温度低于该有机化合物颗粒的分解温度,并且
该有机化合物与该有机化合物颗粒的体积比在99/1至50/50的范围内。
2.根据权利要求1的保护剂,其中该有机化合物是含有异链烷烃和环烷烃中的至少一种的烃蜡。
3.根据权利要求1的保护剂,其中该有机化合物的重量平均分子量在350至850的范围内。
4.根据权利要求1的保护剂,其中该有机化合物颗粒包括多糖,其中,将平均5至100的单糖脱水并缩合。
5.根据权利要求1的保护剂,其中该有机化合物颗粒包括热固性树脂颗粒。
6.根据权利要求1的保护剂,其中该有机化合物颗粒包括有机硅橡胶颗粒。
7.根据权利要求1的保护剂,还含有相对于该有机化合物颗粒来说0.1重量百分比至5重量百分比的两性有机化合物。
8.一种保护层形成设备,包括:
图像载体保护剂,该保护剂至少含有熔化性有机化合物,该有机化合物的针入度在25℃下在3毫米至30毫米的范围内,和热分解性有机化合物颗粒,该有机化合物颗粒的重量平均粒度在2微米至20微米的范围内;
承载单元,其承载该保护剂;
保护剂供应单元,其供应该保护剂至图像载体;和
压力施加单元,该单元向保护剂供应单元按压保护剂以使该保护剂接触保护剂供应单元,其中
该有机化合物的熔化温度低于该有机化合物颗粒的分解温度,并且
该有机化合物与该有机化合物颗粒的体积比在99/1至50/50的范围内。
9.根据权利要求8的保护层形成设备,还包括用供应至图像载体的保护剂形成保护层的保护层形成单元。
10.一种成像装置,包括:
图像载体,在其上形成静电潜像;
静电潜像形成单元,其在图像载体上形成静电潜像;
显影单元,其使用调色剂显影静电潜像以形成可见图像;
转印单元,其转印可见图像至记录介质上;
保护层形成设备,其包括
图像载体保护剂,该保护剂至少含有熔化性有机化合物,该有机化合物的针入度在25℃下在3毫米至30毫米的范围内,和热分解性有机化合物颗粒,该有机化合物颗粒的重量平均粒度在2微米至20微米的范围内,
承载单元,其承载该保护剂,
保护剂供应单元,其供应该保护剂至图像载体,和
压力施加单元,其向保护剂供应单元按压保护剂以使保护剂接触保护剂供应单元;和
定影单元,其定影转印至记录介质上的可见图像,其中
该有机化合物的熔化温度低于该有机化合物颗粒的分解温度,并且
该有机化合物与该有机化合物颗粒的体积比在99/1至50/50的范围内。
11.根据权利要求10的成像装置,还包括在图像载体的运动方向上,在转印单元的下游侧和保护层形成设备的上游侧设置的清洁单元,该清洁单元去除残留在图像载体表面上的调色剂。
12.根据权利要求10的成像装置,其中该图像载体在其最外表面层至少含有热固性树脂。
13.根据权利要求10的成像装置,
其中该图像载体是感光元件和中间转印元件中的任一个。
14.根据权利要求10的成像装置,其中该静电潜像形成单元包括充电单元,该充电单元与图像载体表面接触或靠近设置。
15.根据权利要求14的成像装置,其中该充电单元包括电压施加单元,该电压施加单元施加具有交流电组分的电压。
16.根据权利要求10的成像装置,其中用于显影单元的调色剂具有0.90的平均圆形度,这是由下式定义的圆形度SR的平均值:
圆形度SR=(面积等于调色剂颗粒投影面积的圆的周长)/(调色剂颗粒投影图像的周长)。
17.根据权利要求10的成像装置,其中调色剂的重量平均粒度与数量平均粒度的比在1.00至1.40的范围内。
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