[发明专利]可调整调制系数的幅移键控发送机有效

专利信息
申请号: 200710199702.7 申请日: 2007-12-07
公开(公告)号: CN101262459A 公开(公告)日: 2008-09-10
发明(设计)人: 林奎炫;金泰晋 申请(专利权)人: 慧国(上海)软件科技有限公司;慧荣科技股份有限公司
主分类号: H04L27/20 分类号: H04L27/20;H04B1/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 任永武
地址: 200433上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 可调整 调制 系数 键控 发送机
【权利要求书】:

1. 一种可调整调制系数的幅移键控发送机,其包含:

偏流提供单元,用于相应所要发送的数字信号及一个或多个偏流控制信号而提供一个或多个偏流;以及

调制信号产生器,用于相应所述一个或多个偏流而调制载波信号,从而产生对应于所述数字信号的调制信号。

2. 如权利要求1所述的幅移键控发送机,其特征在于所述一个或多个偏流控制信号中的每一个均包含用于决定所述调制信号的下降缘跃迁时间的下降缘控制信号以及用于决定所述调制信号的上升缘跃迁时间的上升缘控制信号。

3. 如权利要求2所述的幅移键控发送机,其特征在于所述偏流提供单元包含一个或多个偏流提供电路,以用于相应所述数字信号及所述偏流控制信号而产生所述偏流。

4. 如权利要求1所述的幅移键控发送机,其特征在于所述调制信号产生器包含一个或多个信号处理单元,用于相应所述偏流而调制所述载波信号。

5. 如权利要求4所述的幅移键控发送机,其特征在于所述信号处理单元包含缓冲器。

6. 如权利要求4所述的幅移键控发送机,其特征在于所述偏流改变所述信号处理单元的电特性。

7. 如权利要求6所述的幅移键控发送机,其特征在于所述信号处理单元的电特性是所述信号处理单元的输出信号相对于输入信号的响应延迟。

8. 如权利要求3所述的幅移键控发送机,其特征在于所述偏流提供单元包含:

参考偏压提供电路,用于相应所述数字信号而提供第一参考偏压;

偏流控制电路,用于相应所述第一参考偏压、所述上升缘控制信号、及所述下降缘控制信号而产生偏压控制电压;以及

偏流输出电路,用于相应所述偏压控制电压而产生所述偏流。

9. 如权利要求8所述的幅移键控发送机,其特征在于所述参考偏压提供电路包含:

第一金属氧化物半导体晶体管,其包含连接至第一源电压的端子、另一端子、及用于产生所述第一参考偏压的栅极端子;以及

第一电流源,其包含连接至一用于产生所述第一参考偏压的节点的端子以及连接至第二源电压的另一端子,以相应所述数字信号而调整电流。

10. 如权利要求8所述的幅移键控发送机,其特征在于所述偏流控制电路包含:

下降缘控制电路,用于相应所述下降缘调整信号而延迟所述第一参考偏压,以产生第二参考偏压;

偏压改变块,用于产生对应于所述第二参考偏压的第三偏压;以及

上升缘调整电路,用于相应所述上升缘控制信号而将所述第三参考偏压延迟一预定时间,以产生所述偏压控制电压。

11. 如权利要求10所述的幅移键控发送机,其特征在于所述下降缘调整电路包含:

第一电阻器,其包含连接至所述第一参考偏压的端子,并具有相应所述下降缘控制信号而改变的电阻值;以及

第一电容器,其包含一端子及连接至所述第二源电压的另一端子,所述一端子连接至所述第一电阻器的另一端子,以产生所述第二参考偏压。

12. 如权利要求10所述的幅移键控发送机,其特征在于所述偏压改变块包含:

第二金属氧化物半导体晶体管,其包含连接至所述第一源电压的端子及被施加所述第二参考偏压的栅极端子;

第三金属氧化物半导体晶体管,其包含连接至所述第一源电压的端子、另一端子、及用于产生所述第三参考偏压的栅极端子;以及

第二电流源,其包含连接至一节点的端子及连接至所述第二源电压的另一端子,其中所述节点用于产生所述第三参考偏压。

13. 如权利要求12所述的幅移键控发送机,其特征在于所述第二电流源是用于吸收电流的静态电流源,所述电流的值是固定的。

14. 如权利要求11所述的幅移键控发送机,其特征在于所述上升缘调整电路包含:

第二电阻器,其包含连接至所述第三参考偏压的端子,并具有相应所述上升缘控制信号而改变的电阻值;以及

第二电容器,其包含一端子及连接至所述第二源电压的另一端子,所述一端子连接至所述第二电阻器的另一端子,以产生所述偏压控制电压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于慧国(上海)软件科技有限公司;慧荣科技股份有限公司,未经慧国(上海)软件科技有限公司;慧荣科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710199702.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top