[发明专利]用于使薄层太阳能模块形成结构的方法无效

专利信息
申请号: 200710199771.8 申请日: 2007-11-02
公开(公告)号: CN101232059A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: D·曼茨 申请(专利权)人: 曼兹自动化股份公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/302;H01L21/84;H01L31/042;H01L27/142
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曹若;赵辛
地址: 德国罗*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 薄层 太阳能 模块 形成 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种用于使薄层太阳能模块(15)形成结构的方法,其中在衬底(1)上涂覆多个薄层(2,4,10),并且其中在薄层(2,4,10)中分别加入线状刻痕(3,5,11),在刻痕中再去除至少一个薄层(2,4,10)的材料,其特征在于,在加入新的刻痕(5,11)之前或期间确定现有刻痕(3,5)的走向,并且在加入新的刻痕(5,11)时相对于现有刻痕(3,5)的走向调节新的刻痕(5,11)的走向。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,调节新的刻痕(5,11)的走向,使得在现有的刻痕(3,5)与新的刻痕(5,11)之间调定恒定的间距(AY)。

3.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,作为关于直线延伸的主形成结构方向(HSR)的正交偏差(DY)确定现有刻痕(3,5)的走向。

4.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,光学地确定现有刻痕(3,5)的走向。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,通过确定的波长实现薄层太阳能模块(15)的照射,其中该波长适配于被透射和/或入射的薄层(2,4,10)的和必要时衬底(2)的材料的特性、尤其是传输和反射特性。

6.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,通过刻痕位置传感器(6)确定现有刻痕(3,5)的走向,其中该刻痕位置传感器(6)相应地跟随现有刻痕(3,5)的走向。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,通过形成结构装置实现从至少一个薄层(2,4,10)中去除材料用于加入新的刻痕(5,11),该形成结构装置的控制点以确定的间距(AX)跟随刻痕位置传感器(6)。

8.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,通过机械的刻刀实现加入线状刻痕(3,5,11)。

9.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,通过激光射线(8a)实现加入线状刻痕(3,5,11),其中尤其是激光射线(8a)通过至少一个偏转镜(9)偏转到薄层太阳能模块(15)上的所期望的位置上。

10.按照如上述权利要求中任一项所述的方法加工的薄层太阳能模块(15)。

11.如权利要求10所述的薄层太阳能模块(15),其特征在于,所述薄层太阳能模块(15)具有多个结构单元(SE1,SE2,SE3),它们相互间通过分别具有线状刻痕(3,5,11)组的过渡区(T12,T23)分开,其中一组的线状刻痕(3,5,11)相互平行延伸。

12.如权利要求11所述的薄层太阳能模块(15),其特征在于,一组的相邻刻痕(3,5,11)在衬底(1)的平面(xy)上测量具有60μm或者更少的间距。

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