[发明专利]用于使薄层太阳能模块形成结构的方法无效
申请号: | 200710199771.8 | 申请日: | 2007-11-02 |
公开(公告)号: | CN101232059A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | D·曼茨 | 申请(专利权)人: | 曼兹自动化股份公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/302;H01L21/84;H01L31/042;H01L27/142 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曹若;赵辛 |
地址: | 德国罗*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 薄层 太阳能 模块 形成 结构 方法 | ||
1.一种用于使薄层太阳能模块(15)形成结构的方法,其中在衬底(1)上涂覆多个薄层(2,4,10),并且其中在薄层(2,4,10)中分别加入线状刻痕(3,5,11),在刻痕中再去除至少一个薄层(2,4,10)的材料,其特征在于,在加入新的刻痕(5,11)之前或期间确定现有刻痕(3,5)的走向,并且在加入新的刻痕(5,11)时相对于现有刻痕(3,5)的走向调节新的刻痕(5,11)的走向。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,调节新的刻痕(5,11)的走向,使得在现有的刻痕(3,5)与新的刻痕(5,11)之间调定恒定的间距(AY)。
3.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,作为关于直线延伸的主形成结构方向(HSR)的正交偏差(DY)确定现有刻痕(3,5)的走向。
4.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,光学地确定现有刻痕(3,5)的走向。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,通过确定的波长实现薄层太阳能模块(15)的照射,其中该波长适配于被透射和/或入射的薄层(2,4,10)的和必要时衬底(2)的材料的特性、尤其是传输和反射特性。
6.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,通过刻痕位置传感器(6)确定现有刻痕(3,5)的走向,其中该刻痕位置传感器(6)相应地跟随现有刻痕(3,5)的走向。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,通过形成结构装置实现从至少一个薄层(2,4,10)中去除材料用于加入新的刻痕(5,11),该形成结构装置的控制点以确定的间距(AX)跟随刻痕位置传感器(6)。
8.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,通过机械的刻刀实现加入线状刻痕(3,5,11)。
9.如上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,通过激光射线(8a)实现加入线状刻痕(3,5,11),其中尤其是激光射线(8a)通过至少一个偏转镜(9)偏转到薄层太阳能模块(15)上的所期望的位置上。
10.按照如上述权利要求中任一项所述的方法加工的薄层太阳能模块(15)。
11.如权利要求10所述的薄层太阳能模块(15),其特征在于,所述薄层太阳能模块(15)具有多个结构单元(SE1,SE2,SE3),它们相互间通过分别具有线状刻痕(3,5,11)组的过渡区(T12,T23)分开,其中一组的线状刻痕(3,5,11)相互平行延伸。
12.如权利要求11所述的薄层太阳能模块(15),其特征在于,一组的相邻刻痕(3,5,11)在衬底(1)的平面(xy)上测量具有60μm或者更少的间距。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于曼兹自动化股份公司,未经曼兹自动化股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710199771.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的