[发明专利]低辐射玻璃有效
| 申请号： | 200710200311.2 | 申请日： | 2007-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN101269917A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 陈杰良 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;B32B33/00;B32B17/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 辐射 玻璃 | ||
1. 一种低辐射玻璃，包括玻璃基体和设置于玻璃基体表面的低辐射膜，其特征在于，所述低辐射膜由多层二氧化钛膜层和多层二氧化硅膜层交替叠加形成，所述低辐射膜的总膜层数为30~40层，所述低辐射膜中与玻璃基体相接触的膜层为二氧化钛膜层，低辐射膜的最外层膜层为二氧化硅膜层。
2. 如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述玻璃基体具有相对的第一表面和第二表面，所述低辐射膜设置于所述第一表面，所述第二表面设置有抗反射层。
3. 如权利要求2所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述抗反射层由多层高折射率膜层和多层低折射率膜层交替叠加形成，所述抗反射层与第二表面接触的膜层为高折射率膜层，抗反射层的最外层为低折射率膜层。
4. 如权利要求3所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述高折射率膜层为选自二氧化钽、硫化锌、二氧化钛中的一种。
5. 如权利要求3所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述低折射率材料为选自氟化镁、二氧化硅中的一种。
6. 如权利要求2所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述抗反射层的总膜层数为4层。
7. 如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述二氧化钛膜层、二氧化硅膜层的光学膜厚为λC/4，其中，λC为设计波长。
8. 如权利要求7所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述二氧化钛膜层的物理膜厚为λC/(4nH)，二氧化硅膜层的物理膜厚为λC/(4nL)，其中，nH为二氧化钛膜层的折射率，nL为二氧化硅膜层的折射率。
9. 如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，以所述低辐射膜与玻璃接触的膜层为第一层，第一层膜层的物理膜厚为1.18λC/(4nH)，与第一层相接触的膜层为第二层，第二层膜层的物理膜厚为1.134λC/(4nL)，低辐射膜的最外层膜层的物理膜厚为λC/(8nL)，其中，nH为二氧化钛膜层的折射率，nL为二氧化硅膜层的折射率。
10. 如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述低辐射玻璃对可见光的透射率大于90％，对红外辐射的透射率小于5％。
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