[发明专利]还原器导渣装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种导渣装置，特别是涉及一种还原器(釜或罐)导渣装置。

背景技术

金属真空冶炼要求还原反应温度在1000～1300℃之间，还原罐内部压强小于10Pa～13Pa。采用还原器装料进行还原反应，在还原反应结束后，也必然会有大量的还原渣从还原器中排出。为了提高还原器排渣口的密封度和减小排渣时造成还原器内的热量损失，因此排渣口的直径不能过大。由于排渣口的直径较小和排渣口处在高温状态下，排渣时排渣口的温度很高，工人在高温下进行作业，劳动强度大，工作环境恶劣，因此大大影响了排渣的工作效率，延长了排渣的时间，造成还原器内的热量损失，提高了生产成本。由于经常拆装，也会影响还原器排渣口密封的可靠性。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种还原器导渣装置。可以提高排渣效率，减少还原器中的热量损失，降低能源消耗，提高生产能力，并改善工人的劳动条件。

本发明的技术方案：一种还原器导渣装置，其特征在于：该装置包括隔热体存放段1，隔热体存放段1倾斜设置，隔热体存放段1的底部设有端盖2，隔热体存放段1的顶部设有活动密封口3，隔热体存放段1的下方连接有导渣管4。

上述的还原器导渣装置中，在所述的隔热体存放段1的上方与导渣管4对应的位置设有辅助排渣口5。

前述的还原器导渣装置中，所述的隔热体存放段1顶部的活动密封口3中设有密封垫6。

前述的还原器导渣装置中，所述的隔热体存放段1或/和导渣管4上设有滑动支座7，滑动支座7的下面设有导槽或导轨8，导槽或导轨8在水平面可纵向设置，或横向设置，也可以任意方向设置。

前述的还原器导渣装置中，所述的导槽或导轨8上设有滑动支座定位装置9。

前述的还原器导渣装置中，所述的导渣管4下方的一侧设有与导渣管4连接的挡尘板10。

前述的还原器导渣装置中，所述的导渣管4下方设有导渣槽11。

与现有技术相比，本发明由于排渣过程基处于密封状态，可以减少还原器中的热量向外传递，改善了排渣操作的工作环境，排渣过程中只要打开排渣阀，处于还原器隔热段的隔热体自动滑入本发明中的隔热体存放段，还原渣自动从还原器中流出，经过本发明的导渣管直接流入导渣槽，提高了工作效率，缩短了排渣的时间。减少了热辐射，因此大大改善了工人的劳动环境和劳动条件。

附图1是本发明的结构示意图；

附图2是本发明的结构俯视图

附图3是本发明导渣前与还原器之间的位置示意图：

附图4是本发明导渣时的工作示意图：

附图中的标记为：1-隔热体存放段，2-端盖，3-活动密封口，4-导渣管，5-辅助排渣口，6-密封垫，7-滑动支座，8-导槽或导轨，9-滑动支座定位装置，10-挡尘板，11-导渣槽，12-还原器，13-隔热段，14-排渣阀，15-隔热体。

具体实施方式