[发明专利]模造玻璃模仁及其制造方法

权利要求书

1.一种模造玻璃模仁，其包括底材、中介层及保护膜，该中介层位于底材的表面，该保护膜位于中介层的表面，且该保护膜具有一模造凹槽的模造面，其特征在于：该底材的材料为碳化硅，该中介层的材料为硅材料。

2.如权利要求1所述的模造玻璃模仁，其特征在于：该中介层的厚度为2-8nm，该保护膜的厚度为20-100nm。

3.如权利要求1所述的模造玻璃模仁，其特征在于：该保护膜的材料为铱-铂合金。

4.如权利要求1所述的模造玻璃模仁，其特征在于：该保护膜的材料为碳化硅。

5.一种模造玻璃模仁的制造方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

提供一底材；

沉积一层中介层于底材表面；

在中介层表面沉积一层保护膜；

其中该底材的材料为碳化硅，该中介层的材料为硅材料。

6.如权利要求5所述的模造玻璃模仁，其特征在于：该中介层的厚度为2-8nm。

7.如权利要求5所述的模造玻璃模仁，其特征在于：该保护膜的厚度为20-100nm。

8.如权利要求5所述的模造玻璃模仁的制造方法，其特征在于：该中介层的硅材料是通过交流溅射或射频溅射沉积于该底材的表面。

9.如权利要求5所述的模造玻璃模仁的制造方法，其特征在于：该保护膜的材料为碳化硅，该保护膜是以碳化硅为溅射靶材，以氩气、氪气、氩气与甲烷、氪气与甲烷、氩气与氢气或者氪气与氢气中的一种作为溅射气源，通过反应性射频溅射沉积于中介层表面制得，其中甲烷或者氢气在混合气体中的比例为5％-20％，射频频率为13.56MHz。

10.如权利要求1所述的模造玻璃模仁，其特征在于：该保护膜的材料为铱-铂合金，其通过直流磁控溅射或射频溅射制得。