[发明专利]溅镀式镀膜装置及镀膜方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置及镀膜方法，尤其涉及一种溅镀式镀膜装置及采用该溅镀式镀膜装置的镀膜方法。

背景技术

溅镀是利用等离子体产生的离子去撞击阴极靶材，将靶材内的原子撞出而沉积在基材表面上堆积成膜层。由于溅镀可以同时达成较佳的沉积效率、精确的成份控制、以及较低的制造成本，因此在工业上被广泛应用。

当前手机数码相机镜头的应用已日渐普及，因此有必要提升其关键零部件的制造技术，以有效地降低其制造成本及提升其良率。作为相机镜头关键零部件之一的镜头模组通常包括镜座、镜筒以及收容在镜筒内的镜片、垫片(Spacer)、光圈、红外截止滤光片(IR-cut Filter)等元件。镜片的设计方法请参阅Chao等人在2000年IEEE系统、超声波会议(2000 IEEE Ultrasonics Symposium)上发表的论文Aspheric lens design。

在镜头模组组装过程中，通常需将所述镜片、垫片、光圈、红外截止滤光片等元件通过一定顺序装入镜筒，再将镜筒旋入镜座以组装成一个完整的镜头模组。另外，如图1所示，为了降低所述镜头模组受电磁干扰的程度，在对所述镜头模组进行组装前，一般还需于镜座2a的外圆周面20a上溅镀上一层防电磁干扰(Electromagnetic Interference，EMI)膜层，以提升组装后镜头模组抗电磁干扰的能力。

现有技术以溅镀法来制备所述镜座2a外圆周面20a的膜层时，为了增加所述膜层厚度的均匀度，需要使靶材1a在对所述镜座2a的外圆周面20a进行镀膜时，该镜座2a保持一定速度朝某一方向行进，且当所述膜层的厚度需要调整时，还需根据膜层的厚度选择靶材的数量，即膜层较薄时，可以选用较少的靶材，然而，当膜层较厚，且相对应地所述靶材的数量要求较多时，为了容置所述多个靶材，制备所述膜层的设备将不得不相应地增加体积，这在一定程度上增加了设备的更换频率和由此带来的经济成本。

有鉴于此，有必要提供一种可在镀膜过程中方便调节膜层厚度的溅镀式镀膜装置及镀膜方法。

发明内容

下面将以实施例说明一种可在镀膜过程中方便调节膜层厚度的溅镀式镀膜装置及镀膜方法。

本发明提供一种溅镀式镀膜装置，其包括一个镀膜工作室、至少一靶材、一个传输带、以及一个运载装置。所述至少一靶材设置在所述镀膜工作室的顶部。所述传输带沿所述镀膜工作室的底部的一预定延伸方向做线性运动，该运载装置包括一个固定座、一个旋转单元、一个转盘、以及至少一设置在所述转盘上的承载台。该固定座设置在该传输带上。该旋转单元连接于该固定座，该传输带带动所述旋转单元运动至与该至少一靶材相对并进一步远离该至少一靶材。该转盘的轴心与该旋转单元相连接。所述至少一承载台设置在所述转盘上，用于承载工件，且所述至少一承载台位于所述旋转单元的至少一侧，所述旋转单元带动所述至少一个承载台在远离所述至少一靶材时旋转，所述承载台旋转时，所述传输带同时带动所述承载台沿所述预定延伸方向做线性运动。

以及，一种采用上述溅镀式镀膜装置的溅镀式镀膜方法，其包括以下步骤：

(1)提供一种如权利要求1所述的溅镀式镀膜装置，且所述镀膜装置包括位于所述旋转单元两侧的两个承载台，将待镀膜工件装载在先接近所述至少一靶材的承载台上；(2)装载有所述工件的承载台沿接近于所述至少一靶材的方向作线性运动；(3)所述工件相对所述至少一靶材，所述至少一靶材对所述工件进行镀膜；(4)所述承载台旋转一预定角度使得所述工件再次接近并相对所述至少一靶材，所述至少一靶材对所述工件进行二次溅镀。

相对于现有技术，所述溅镀式镀膜装置及镀膜方法经由设置一个可沿镀膜工作室作线性运动的运载装置，并将该运载装置的承载台设置为可绕该运载装置的固定座旋转，一方面，可经由所述运载装置带动承载台上承载的工件依次进行镀膜，从而可实现镀膜的连续作业，并且提高膜层厚度的均匀度；另一方面，当工件表面所需的膜层较厚时，可经由将承载台翻转一预定角度以对该工件进行二次溅镀，因此，所述溅镀式镀膜装置可在不增加靶材的数量的前提下，实现对镀膜过程中膜层的厚度的调节，进而可达到降低生产成本的目的。

附图说明

图1是现有采用溅渡法对镜座进行镀膜的原理示意图。

图2是本发明第一实施例提供的溅镀式镀膜装置的结构示意图。

图3是镜筒的结构示意图。

图4是图2所示的溅镀式镀膜装置对镜座的外圆周面进行镀膜的示意图。

图5是图2所示的溅镀式镀膜装置的转盘翻转180度以对镜座的外圆周面进行二次镀膜的示意图。