[发明专利]补光装置有效
申请号: | 200710202438.8 | 申请日: | 2007-11-09 |
公开(公告)号: | CN101430478A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
发明(设计)人: | 曾富岩;廖家文 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03B15/05 | 分类号: | G03B15/05;G03B15/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
1.一种补光装置,其包括至少一个电路板及至少两个与该电路板相电连接的发光二极管,其特征在于:该补光装置还包括一个灯罩,所述灯罩设置在所述电路板上,该灯罩包括至少一个远光灯罩及至少一个近光灯罩,所述至少两个发光二极管分别设置在所述至少一个远光灯罩及所述至少一个近光灯罩内。
2.如权利要求1所述的补光装置,其特征在于:所述灯罩包括有一个基体,该基体包括一个上表面以及一个与该上表面相对应的下表面,所述远光灯罩及近光灯罩分别由并排形成在所述基体的上表面上的第一凹槽及第二凹槽与形成对应凹槽的部分基体共同构成,所述第一凹槽的开口半径小于所述第二凹槽的开口半径。
3.如权利要求1所述的补光装置,其特征在于:所述补光装置包括至少两个相互分离的基体,所述基体分别设置在与其相对应的电路板上,所述远光灯罩及所述近光灯罩分别由形成在所述相互分离的基体上的第一凹槽及第二凹槽及形成所述第一凹槽及第二凹槽的基体共同构成。
4.如权利要求2或3所述的补光装置,其特征在于:所述第一凹槽与所述第二凹槽的底面为曲面。
5.如权利要求2或3所述的补光装置,其特征在于:所述第一凹槽与所述第二凹槽的底面为球面或者非球面。
6.如权利要求2或3所述的补光装置,其特征在于:所述第一凹槽在其底面上的任意一点的曲率大于所述第二凹槽的底面相同位置处的曲率。
7.如权利要求2或3所述的补光装置,其特征在于:所述第一凹槽与所述第二凹槽的底面开设有贯穿所述基体下表面的通孔,所述至少两个发光二极管分别设置在所述通孔内,该至少两个发光二极管一端分别穿过通孔向第一凹槽和第二凹槽的开口方向伸出一定距离,其另一端与电路板电连接。
8.如权利要求2或3所述的补光装置,其特征在于:所述第一凹槽及所述第二凹槽的底面上涂布有反光薄膜。
9.如权利要求2或3所述的补光装置,其特征在于:所述电路板与成像装置的控制电路相电连接,当成像装置的拍摄模式为近景时,该电路板为近光灯罩内的发光二极管提供电源,当成像装置的拍摄模式为远景时,该电路板为设置在远光灯罩内的发光二极管提供电源。
10.如权利要求2或3所述的补光装置,其特征在于:所述形成在基体上的第一凹槽与第二凹槽相对于该基体的上表面的深度相同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710202438.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:投影机灯泡盖锁紧机构
- 下一篇:判断被摄物体距离的方法