[发明专利]用于液晶显示装置的阵列基板及其制造方法

权利要求书

1.一种用于液晶显示装置的阵列基板，该阵列基板包括：

基板；

所述基板上的选通线；

与所述选通线交叉以限定像素区的数据线；

连接至所述选通线和所述数据线的薄膜晶体管，该薄膜晶体管包括连接至所述选通线的栅极、其边界位于所述栅极之内的半导体层、连接至所述数据线的源极以及与所述源极分隔开的漏极；

位于所述数据线和所述薄膜晶体管上的钝化图案；以及

从所述漏极起延伸的像素电极，

其中，所述数据线、所述源极以及所述漏极中的每一个都具有由第一导电材料层和该第一导电材料层上的第二导电材料层形成的双层结构，所述像素电极包括所述第一导电材料层，所述钝化图案覆盖所述数据线以及所述源极和漏极并且暴露出所述像素电极。

2.根据权利要求1所述的用于液晶显示装置的阵列基板，所述阵列基板还包括位于所述选通线的一端处的选通接点和位于所述数据线的一端处的数据接点，其中，所述选通接点和所述数据接点由相同材料形成在同一层中。

3.根据权利要求2所述的用于液晶显示装置的阵列基板，所述阵列基板还包括接触所述选通接点的选通接点端子和接触所述数据接点的数据接点端子，其中，所述选通接点端子和所述数据接点端子通过所述钝化图案而暴露出来。

4.根据权利要求1所述的用于液晶显示装置的阵列基板，所述阵列基板还包括：

与所述选通线平行且分隔开的公共线；和

在所述像素区中与所述像素电极分隔开的公共电极。

5.根据权利要求1所述的用于液晶显示装置的阵列基板，其中，所述第一导电材料层包括由铟锡氧化物和铟锌氧化物组成的一组透明材料中的一种。

6.根据权利要求5所述的用于液晶显示装置的阵列基板，所述阵列基板还包括所述半导体层与所述源极之间的和所述半导体层与所述漏极之间的缓冲金属层，其中，所述半导体层包括由本征非晶硅制成的有源层和由掺杂非晶硅制成的欧姆接触层。

7.根据权利要求6所述的用于液晶显示装置的阵列基板，其中，所述缓冲金属层包括钼。

8.根据权利要求5所述的用于液晶显示装置的阵列基板，其中，所述第二导电材料层包括由铜、钼、钼合金、铝、铝合金以及铬组成的一组不透明材料中的一种。

9.根据权利要求4所述的用于液晶显示装置的阵列基板，其中，所述像素电极包括从所述漏极起延伸的延伸部、从所述延伸部起垂直延伸的多个垂直部，并且其中，所述公共电极包括多个垂直部，所述公共电极的所述多个垂直部与所述像素电极的所述多个垂直部交替。

10.根据权利要求9所述的用于液晶显示装置的阵列基板，所述阵列基板还包括覆盖所述选通线的栅绝缘层，其中，所述公共电极通过所述栅绝缘层中的公共接触孔连接至所述公共线。

11.根据权利要求1所述的用于液晶显示装置的阵列基板，其中，所述像素电极和所述公共电极中的每一个都包括通过所述钝化图案暴露出的所述第一导电材料层。

12.根据权利要求1所述的用于液晶显示装置的阵列基板，其中，所述第一导电材料层包括由铟锡氧化物和铟锌氧化物组成的一组透明材料中的一种或者由钼以及钼合金组成的一组不透明材料中的一种。

13.根据权利要求12所述的用于液晶显示装置的阵列基板，其中，所述第二导电材料层包括由铜、钼、钼合金、铝、铝合金以及铬组成的一组不透明材料中的一种。

14.根据权利要求1所述的用于液晶显示装置的阵列基板，其中，所述像素电极与相邻像素区中的相邻选通线交叠，以限定存储电容器，该存储电容器包括所述相邻选通线的交叠部分作为第一电容器电极并包括所述像素电极的交叠部分作为第二电容器电极。