[发明专利]成像装置及其显影单元无效

专利信息
申请号: 200710303554.9 申请日: 2007-11-30
公开(公告)号: CN101241331A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 文智园 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 成像 装置 及其 显影 单元
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种成像装置,更具体地说,涉及成像装置及其显影单元,该显影单元具有防止显影剂泄露的密封件。

背景技术

通常,一个成像装置是将图像根据输入图像信号打印在诸如纸之类的打印介质上的一种装置。作为成像装置的一个例子,电子照相成像装置构造成扫描光柱至带有电势的感光件从而在感光件外围表面上形成一个静电潜像,通过在静电潜像上粘附显影剂使得静电潜像显影为一个可视图像,然后可视图像被传送或定位到纸上。

成像装置的显影单元提供存储在感光件内的显影剂以便显影感光件的静电潜像。图1为常规显影单元构件的组合视图,图2为图1在F向的视图。如图1和图2所示,常规显影单元包括提供显影剂给感光件1的显影剂输送件2,可转动地安装在显影剂输送件2的旋转轴2a两末端的接触件3,当与感光件1的外围表面接触时所述接触件3可旋转,防止显影单元内的显影剂泄露到外面的密封件4。

接触件3具有大于显影剂输送件2的外围直径。由此,在显影剂单元2和感光件1之间定义了一个显影间隙G。在粘附显影剂到感光件1的静电潜像上将静电潜像显影为可视图像的过程中,关键的是保持一个不变的显影间隙G以保证一致和稳定的图像质量。

密封装置4包括在显影剂输送件2两末端提供的以防止显影剂通过显影剂输送件2侧部泄露的第一密封件5,以及与显影剂输送件2底部接触以防止显影剂通过显影剂输送件2底部泄露的第二密封件6。第二密封件6构造为薄膜类型。第二密封件6的一端与显影单元的壳体7接触,由于自身弹性,第二密封件6的另一端与显影剂输送件2的外围表面接触。

然而,在上述常规显影单元中,由于第二密封件6在轴向具有与显影剂输送件2相同的长度,第二密封件6两端与密封在显影剂输送件2侧部的第一密封件5相互干扰。由于在粘附到壳体7上的第二密封件6两端的粘附力很弱,当显影剂输送件2旋转时,第二密封件6和第一密封件5之间的干扰可能会导致第二密封件6与壳体7脱离。

此外,传统的显影单元的密封装置4不能完美的防止显影剂的泄露。如果显影剂泄露,分散的显影剂会污染接触件3,并在接触件3和感光件1之间形成一个杂质层。如果接触件3受到污染,显影剂输送件2和感光件1之间的显影间隙G就不能保持不变,这就会导致图像质量下降。

为了解决这个问题,专利号为460,995的韩国专利公开了一种用于成像装置的杂质清除装置,所述装置可清除粘附在显影间隙保持件上的杂质层。公开的杂质清除装置构造为安装有用于清除杂质的刀片,弹性地偏压刀片的弹性支撑件,以及在显影单元内支撑刀片和弹性支撑件的一个固定壳体。然而,这种显影单元需要改进,例如,降低其复杂性以减少生产成本。

发明内容

因此,本申请总发明构思的一个方面是提供一种改进的成像装置及其显影单元以安全地支撑密封件防止存储在显影单元内的显影剂泄露。

此外,本申请总发明构思的另一个方面是提供一种能通过简单构件来清洁接触件表面的成像装置及其显影单元。

本申请总发明构思另外的方面和应用将在以下说明中部分地阐述,以及部分地,在说明中将更加明显,或通过总发明构思的应用获得。

本申请总发明构思的前述和/或其他方面和应用通过提供一种成像装置而实现,所述成像装置包括感光件,用于输送显影剂来给感光件提供显影剂的显影剂输送件,用于保持在感光件和显影剂输送件之间的显影间隙或显影夹缝的接触件,以及用于与显影剂输送件接触防止显影剂泄露的密封件,所述密封件包括与接触件接触用于清洁接触件表面的清洁部。

密封件进一步包括防止显影剂泄露的密封部,和将密封部与清洁部分开的切割部。

接触件与显影剂输送件两端相邻设置,密封件在纵向上的长度大于显影剂输送件和接触件的长度之和。

密封件进一步包括与显影剂输送件接触的密封部,所述密封部在宽度方向上具有与每个清洁部不同的长度。

所述成像装置可进一步包括显影剂输送件可转动地安装于其上的壳体。密封件可进一步包括在显影剂输送件下面固定于壳体上的固定部。

所述成像装置可进一步包括将所述固定部按压向所述壳体的夹子。

密封件可包括一个弹性薄膜件。

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