[发明专利]一种具有耐腐蚀膜的稀土永磁体的制造方法有效

专利信息
申请号: 200710303972.8 申请日: 2007-12-24
公开(公告)号: CN101469428A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: 王湛;饶晓雷;王浩颉;胡伯平 申请(专利权)人: 北京中科三环高技术股份有限公司
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;H01F1/057;H01F41/02
代理公司: 北京乾诚五洲知识产权代理有限责任公司 代理人: 付晓青;李广文
地址: 100080北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 腐蚀 稀土 永磁体 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种具有耐腐蚀膜的稀土永磁体的制造方法,所述制造方法 包括如下步骤:

(1)对稀土永磁体工件的表面施以喷砂处理;

(2)将喷砂完的永磁体工件放入镀膜机真空室中,对镀膜机真空 室抽真空,在惰性气体下利用离子源对磁体进行离子化轰击;

(3)离子化轰击后,在真空条件下,对铝材进行蒸发,将蒸发源 垂直方向匀速往复运动;并且在蒸发过程中同时开启电弧电源轰击铬 靶块,在永磁体工件和真空室金属外壳炉体上加载一定的轰偏电压, 形成离子流,使铝材蒸发的铝蒸汽离子化,以使永磁体工件的表面形 成铝镀层沉积。

2.如权利要求1所述的制造方法,其中,在喷砂过程中,喷砂 磨料为60~150目,压缩空气为0.3~0.7Mpa。

3.如权利要求1所述的制造方法,其中,对喷砂过的永磁体工 件进行抽真空至真空度为3x10-3Pa。

4.如权利要求1所述的制造方法,其中,所述惰性气体包括氩 气、氮气、氖气。

5.如权利要求1所述的制造方法,其中,所述离子化轰击在离 子源电源功率≤2kw条件下进行轰击。

6.如权利要求1所述的制造方法,其中,在蒸发过程中真空度 为0.1~3.0Pa。

7.如权利要求1所述的制造方法,其中,在蒸发时,蒸发源在 垂直方向匀速往复运动,且蒸发距离的变化范围在0~20mm,速度调 整范围在1~10mm/min。

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