[发明专利]一种含有富勒烯的MgB2超导材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710304228.X 申请日: 2007-12-26
公开(公告)号: CN101215165A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 张现平;马衍伟;王栋樑;高召顺;王雷 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/04;C04B35/65;C04B35/63;H01L39/12;H01L39/24
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 代理人: 关玲;成金玉
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 含有 富勒烯 mgb sub 超导 材料 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种含有富勒烯的MgB2超导材料及其制备方法。

背景技术

MgB2具有较高的转变温度、较大的相干长度、晶界不存在弱连接、结构简单、成本低廉等特点。这些优点使MgB2成为应用在20K-30K温度范围的材料最有力的竞争者。特别是在磁共振成像磁体(MRI)应用方面,MgB2表现了极大的优势,已经有数据表明,MgB2的实用化将带来数十亿的经济效益,而且由于可以在制冷机制冷条件下工作,MgB2的应用将会大大推动磁共振成像仪的推广,对于中国广大的乡村人民医疗水平的提高具有十分重要的意义。

然而目前制备的MgB2材料的临界电流密度与低温超导体和A15超导体相比还比较低。临界电流密度是决定一种超导材料能否大规模应用的关键特性,薄膜或块状MgB2超导体在零场下具有较高的临界电流密度,但在一定的磁场中,MgB2临界电流密度随着磁场强度的增加而急剧的减小。为了提高MgB2在一定磁场下的临界电流密度,可以采用中子(质子)轰击、化学腐蚀、机械加工、掺杂等方法,而由于掺杂具有更简便快速、能进行均匀改性等特点,成为目前提高MgB2材料超导性能的主要方法。

目前为止,由掺杂提高MgB2材料性能效果最好的掺杂物质是张现平等人发现的纳米C(Superconductor Science and Technology,2007,20:1198-1204)以及窦士学等人尝试的纳米SiC(Applied Physics Letters,2002,81:3419)。大量实验结果已经表明,纳米C和纳米SiC掺杂会大幅度提高MgB2块材的上临界场和不可逆场,同时引入大量的有效钉扎中心,从而使得MgB2材料在磁场中的临界电流密度也得到提高。例如经过SiC掺杂以后,MgB2带材的临界电流密度可以达到2.5×104A/cm2[Superconductor Science and Technology,2004,17:S319-S323)],经过C掺杂以后MgB2带材的临界电流密度可以达到2.2×104A/cm2[Zhang X.P.等,Systematic study of the microstructures and electrical and superconducting properties ofnanocarbon doped MgB2 tapes,Supercond.Sci.Technol.20(2007)1198-1204]。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有MgB2超导材料磁场下临界电流密度较低的缺点,提供一种具有高性能MgB2超导材料及其制备方法。本发明制备方法采用富勒烯这种具有奇特性质的掺杂物质进行掺杂,使MgB2超导材料得到不同于普通掺杂物质的提高效果,进而显著提高MgB2材料的临界电流密度。

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