[发明专利]一种应用于硅太阳能电池的扩散工艺有效

专利信息
申请号: 200710304344.1 申请日: 2007-12-27
公开(公告)号: CN101217170A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 励旭东;宋爽;勾宪芳;吴鑫;孙秀菊 申请(专利权)人: 北京市太阳能研究所有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/223
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 徐宁
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 应用于 太阳能电池 扩散 工艺
【权利要求书】:

1.一种应用于硅太阳能电池的扩散工艺,其扩散步骤主要分为两步,具体包括:

(1)进行第一次扩散:将硅片放入扩散炉中,同时通入大氮、小氮、氧气,扩散温度在800~860℃,时间为15~30分钟;

(2)将扩散炉温度升至870~920℃,并将硅片放置10~30分钟进行再分布;

(3)进行第二次扩散:扩散温度在870~920℃,时间为1~10分钟;

(4)扩散过程结束。扩散炉降温,并将硅片取出。

2.如权利要求1所述的一种应用于硅太阳能电池的扩散工艺,其特征在于:通过调节扩散浓度,调节横向电阻以及扩散区和栅线间的接触电阻。

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