[发明专利]一种应用于硅太阳能电池的扩散工艺有效
申请号: | 200710304344.1 | 申请日: | 2007-12-27 |
公开(公告)号: | CN101217170A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 励旭东;宋爽;勾宪芳;吴鑫;孙秀菊 | 申请(专利权)人: | 北京市太阳能研究所有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/223 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐宁 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 太阳能电池 扩散 工艺 | ||
1.一种应用于硅太阳能电池的扩散工艺,其扩散步骤主要分为两步,具体包括:
(1)进行第一次扩散:将硅片放入扩散炉中,同时通入大氮、小氮、氧气,扩散温度在800~860℃,时间为15~30分钟;
(2)将扩散炉温度升至870~920℃,并将硅片放置10~30分钟进行再分布;
(3)进行第二次扩散:扩散温度在870~920℃,时间为1~10分钟;
(4)扩散过程结束。扩散炉降温,并将硅片取出。
2.如权利要求1所述的一种应用于硅太阳能电池的扩散工艺,其特征在于:通过调节扩散浓度,调节横向电阻以及扩散区和栅线间的接触电阻。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的