[发明专利]软模具、阻挡肋和下屏板的制造方法及等离子体显示屏板

说明书

技术领域

本发明涉及等离子体显示屏板(PDP)中包括的阻挡肋的制造方法，更具体而言，涉及软模具的制造方法和采用所述软模具制造阻挡肋的方法。

背景技术

在等离子体显示屏板(PDP)中，将阻挡肋插入到上部基板和下部基板之间，以分隔出多个放电空间，跨越所述放电空间形成多个具有预定图案的维持电极和寻址电极，其用于引起放电空间中的显示放电，从而形成激发荧光体层的紫外线，由此形成预定图像。

阻挡肋避免了放电空间之间的电串扰和光串扰，由此提高了包括色纯度在内的显示质量。而且，阻挡肋提供了涂覆荧光材料的区域，由此提供了PDP的亮度。除了上述的直接效用之外，阻挡肋还通过分隔放电空间界定由红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)放电空间形成的单位像素，并通过定义放电空间之间的单元间距(cell pitch)确定图像的分辨率。如上所述，阻挡肋是用于提高图像质量和发光效率的必要部件，因而在当前对大面积高分辨率屏板的需求的促动下，人们对阻挡肋展开了各种研究。

就常规而言，采用丝网印刷法、喷砂法、蚀刻法或利用感光糊料的光刻法制造阻挡肋。丝网印刷是一种简单的低成本方法，但是对于每一印刷工艺要重复几次将丝网与下部基板对准的工艺以及印刷和干燥用于阻挡肋的糊料的工艺。而且，如果在印刷工艺中没有使丝网与基板精确对准，那么阻挡肋就无法对准。因此，可能以低精确度形成由丝网印刷制造的阻挡肋，而且阻挡肋的顶表面可能不是平面。

喷砂法是应用得最为广泛的方法，因为其对于大面积屏板是有利的。但是，在高压空气的影响下，采用施加至蚀刻颗粒的机械冲击形成高分辨率阻挡肋还存在特殊的技术限制。而且，如果在将用于蚀刻停止层的干膜抗蚀剂附着到阻挡肋糊料层上的层压工艺中，干膜和阻挡肋糊料层之间在位置上相互偏离，那么所得到的阻挡肋就可能是未对准的。此外，在延长了剥离干膜所用的时间时，可能将阻挡肋从电介质层上剥离下来，从而导致无法获得具有预成形状的阻挡肋。

蚀刻法包括向基板上附着用于阻挡肋的材料，并采用适当的蚀刻剂蚀刻所述的用于阻挡肋的材料。在蚀刻法中，可以稳定地塑造阻挡肋的形状，可以形成闭合型的高分辨率阻挡肋，并且与常规喷砂法相比能够降低处理操作的数量。因此，就质量和价格而言，蚀刻法具有充分的竞争力。但是，由于蚀刻法涉及机械和化学蚀刻工艺，因而可能损失大量的材料，并且可能导致环境污染。最重要的是，采用蚀刻法无法形成用于大面积PDP的具有一致形状的阻挡肋，并且只能将小范围内的材料用作形成阻挡肋的可蚀刻材料。

采用感光糊料的光刻法可以包括：在基板上涂覆用于阻挡肋的含有陶瓷材料的感光糊料；使所述感光糊料干燥至所期望的厚度；通过对准掩模对所述感光糊料有选择地曝光；通过采用显影溶液去除曝光部分形成阻挡肋的形状；以及通过烧结工艺制造最终的阻挡肋。光刻法比上述蚀刻法简单，因为省略了形成光致抗蚀剂的工艺。但是，采用光刻法形成的阻挡肋的形状可能根据曝光条件而变化。具体地，在对含有玻璃粉末和陶瓷粉末的厚感光糊料层曝光时，由于玻璃和陶瓷粉末的散布，难以获得均匀的感光结果。此外，在采用光刻法制造诸如PDP的大面积屏板时，难以在大面积内使曝光条件保持均匀，而且感光糊料价格昂贵，并且要去除相当的量的材料，因而制造了大量的工业废物。

发明内容

本发明提供了一种软模具的制造方法，所述软模具(soft mold)成形准确，并且具有高度稳定的尺寸，从而形成高分辨率阻挡肋图案。

而且，本发明还提供了一种采用模制工艺(molding process)制造等离子体显示屏板(PDP)的阻挡肋和下屏板的方法。

此外，本发明还提供了一种采用模制工艺制造的PDP。

根据本发明的一方面，提供了一种软模具的制造方法。所述方法包括：提供其上通过交替凹陷部分和凸起部分形成了阻挡肋图案的金属模具；将聚合物板与所述金属模具相对设置；在压力下将所述金属模具转移到所述聚合物板上，以形成具有其上形成了所述阻挡肋图案的的反像(inverted image)的表面的软模具；以及将所述软模具从所述金属模具上脱卸下来。

根据本发明的另一方面，提供了一种PDP的阻挡肋的制造方法。所述方法包括：制备用于成形阻挡肋的模具，所述模具具有构图表面；使电介质板与所述模具相对设置；以及在压力下将所述模具的图案转移到所述电介质板中，以成形向其施加了压力的构图层和设置在所述构图层的反面的未构图层。