[发明专利]用于分配流体的具有带槽喷嘴组件的装置

权利要求书

1.一种用于将流体分配到衬底上的装置，所述衬底可相对于所述装置移动，该装置特别用于分配粘合剂，所述装置具有基体，所述基体具有可与流体源连接的流体供应通道，所述装置具有与所述流体供应通道连通的带槽喷嘴组件，所述带槽喷嘴组件形成在所述基体上或者连接到所述基体并且具有用于分配流体的槽形排放口，并且所述装置具有用于选择性的阻断或释放流体流的流体阀，其特征在于，所述基体和/或所述带槽喷嘴组件具有多个段，所述多个段在所述槽形排放口的纵向延伸方向上彼此相邻设置。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于多个基体段彼此相邻设置，并且不是所有基体段而是仅仅少数基体段、特别是仅仅一个基体段与流体源连接以供应流体，并且来自与所述流体源连接的基体段的流体可以通过与所述基体段连通的分配通道基本在所有基体段的纵向延伸度上分配。

3.如权利要求2所述的装置，其特征在于所述分配通道形成在所述喷嘴组件内。

4.如权利要求3所述的装置，其特征在于所述分配通道的有效长度可以通过封闭件来调节，所述封闭件可移动，并且位于所述分配通道中并且密封在所述分配通道中。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于所述封闭件具有在所述槽形排放口的方向上延伸的部分，所述部分横向密封所述喷嘴组件的槽。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于喷嘴系统具有两个喷嘴部件，所述两个喷嘴部件基本在所述多个基体段的整个长度上延伸。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于所述分配通道是通过所述两个喷嘴部件中制成的凹槽形成的。

8.如权利要求1所述的装置，其特征在于流体阀被分配给所述多个基体段中的仅仅一个基体段，以选择性地阻断或释放所述分配通道中的流体流。

9.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述流体阀至少部分地位于所述基体段中形成的孔内。

10.如权利要求9所述的装置，其特征在于所述基体段每个都具有两个孔，以容纳所述流体阀，且流体阀位于一个孔中，并且另一个孔借助塞子被封闭。

11.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述流体阀具有可移动的阀体，所述可移动的阀体可与形成在所述基体段上的阀座相接触，以阻断流体流。

12.如权利要求1所述的装置，其特征在于流体过滤器连接到具有所述流体阀的所述基体段，所述流体过滤器连接在所述流体源和所述流体供应通道之间。

13.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述基体段连接到支承型面，优选地通过螺栓拧到支承型面上。

14.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述基体段具有凹槽，所述喷嘴组件部分地或基本上全部位于所述凹槽内。

15.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述基体具有多个孔，以容纳加热筒，以便加热所述基体和所述喷嘴组件。

16.如权利要求1所述的装置，其特征在于保持元件位于所述基体或所述支承型面上的两端处，衬底引导装置连接到所述保持元件，以引导所述衬底沿着规定的运动路径通过所述槽的排放口。

17.如权利要求16所述的装置，其特征在于所述衬底引导装置具有可绕旋转轴线枢转的轴，使得所述衬底引导装置的至少一个衬底引导元件被如此设置使其可以绕所述旋转轴线枢转。