[发明专利]挠性印刷电路板以及半导体装置无效

专利信息
申请号: 200710306099.8 申请日: 2007-12-28
公开(公告)号: CN101212863A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 佐藤哲朗 申请(专利权)人: 三井金属矿业株式会社
主分类号: H05K1/03 分类号: H05K1/03;B32B15/08;H01L23/498
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 代理人: 朱梅;徐志明
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 印刷 电路板 以及 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种挠性印刷电路板,其特征在于,

在由分子内具有亚胺结构和酰胺结构的树脂而构成的基底层表面上,将具有不同表面粗糙度的S面和M面,且该M面的表面粗糙度小于等于5μm的电解铜箔直接进行层压而构成层压体,该电解铜箔被蚀刻处理而形成布线图。

2.一种挠性印刷电路板,其特征在于,

在由分子内具有亚胺结构和酰胺结构的树脂而构成的基底层表面上,将具有不同表面粗糙度的S面和M面,淀积面即M面的表面粗糙度(Rzjis)小于1.0μm、且M面的光泽度[Gs(60°)]大于等于400的电解铜箔直接进行层压而构成层压体,该电解铜箔被蚀刻处理而形成布线图。

3.根据权利要求1或2所述的挠性印刷电路板,其特征在于,

形成所述基底层的树脂为,由芳香族二异氰酸酯、芳香族三羧酸或其酐、芳香族二羧酸或其酐以及/或芳香族四羧酸或其酐形成、且在分子内具有亚胺结构和酰胺结构的树脂。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的挠性印刷电路板,其特征在于,在形成所述基底层的树脂中,形成有以下化学式(1)所表示的结构;

[化学1]

在所述化学式(1)中,R0表示二价烃基、羰基、氧原子、硫原子、氧化硫、单键的任何一种;R1表示有时具有脂肪族烃基的二价芳香族烃基;R2各自独立表示一价烃基;x是0或1;y是0、1、2、3、4之一;z是0、1、2、3之一。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的挠性印刷电路板,其特征在于,在形成所述基底层的树脂中,形成有选自以下化学式(2)~(5)所示结构中的至少一种结构;

[化学2]

在所述化学式(2)中,R0表示二价烃基、羰基、氧原子、硫原子、氧化硫、单键的任何一种;R2、R3、R4各自独立表示一价脂肪族烃基;R5表示二价烃基;R6表示氢原子或一价脂肪族烃基,或者与N共同形成聚酰亚胺结构;n和m各自独立为0、1、2、3、4之一;x是0或1;y是0、1、2、3、4之一;z是0、1、2、3之一;

[化学3]

在所述化学式(3)中,R0表示二价烃基、羰基、氧原子、硫原子、氧化硫、单键的任何一种;R2、R3、R4各自独立表示一价脂肪族烃基;n和m各自独立为0、1、2、3、4之一;x是0或1;y是0、1、2、3、4之一;z是0、1、2、3之一;

[化学4]

在所述化学式(4)中,R0表示二价烃基、羰基、氧原子、硫原子、氧化硫、单键的任何一种;R2、R3、R4各自独立表示一价脂肪族烃基;n和m各自独立为0、1、2、3、4之一;x是0或1;y是0、1、2、3、4之一;z是0、1、2、3之一;

[化学5]

在所述化学式(5)中,R0表示二价烃基、羰基、氧原子、硫原子、氧化硫、单键的任何一种;R2、R3、R4各自独立表示一价脂肪族烃基;n和m各自独立为0、1、2、3、4之一;x是0或1;y是0、1、2、3、4之一;z是0、1、2、3之一。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井金属矿业株式会社,未经三井金属矿业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710306099.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top