[发明专利]使用锥镜实现暗场显微及荧光显微的方法及装置有效
申请号: | 200710307275.X | 申请日: | 2007-12-29 |
公开(公告)号: | CN101216601A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 雷铭;姚保利 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | G02B21/10 | 分类号: | G02B21/10;G02B27/09;G02B21/36 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王少文 |
地址: | 710119陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 实现 暗场 显微 荧光 方法 装置 | ||
1.一种使用锥镜实现暗场显微及荧光显微的方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:
1]产生一平行光束;
2]该平行光束通过锥镜(8),发散形成空心光束;
3]调节空心光束的发散角,使出射光线的发散角大于显微物镜(14)的孔径角;
4]将样品(13)放置在空心光束的中心,用显微物镜(14)观察样品(13)。
2.根据权利要求1所述的使用锥镜实现暗场显微及荧光显微的方法,其特征在于:所述平行光束为照明光或荧光激发光;所述荧光激发光光源(4)采用高压汞灯或采用特定波长的激光器;所述调节空心光束的发散角的方法是:将空心光束依次通过透镜I(9)和透镜II(11),使透镜II(11)出射光线的发散角大于显微物镜(14)的孔径角;
所述锥镜(8)、透镜I(9)、透镜II(11)之间应满足如下关系:
其中:w0-入射平行光束的半径;γ-锥镜(8)的底角;n-锥镜(8)材料的折射率;u1-入射平行光束通过锥镜(8)后的发散角;u2-从透镜II(11)出射光线的发散角;f1-透镜I(9)的焦距;f2-透镜II(11)的焦距;d1-锥镜(8)和透镜I(9)之间的距离;d2-透镜I(9)和透镜II(11)之间的距离;h-光束入射到透镜I(9)上的半径。
3.一种使用锥镜实现暗场显微及荧光显微的装置,包括光源系统、设置在光源系统前方的光学系统、设置在光学系统前方的可放置样品的载物台(12)、设置在样品前方的成像系统;其特征在于:所述光学系统包括依次设置在光源系统前方的准直透镜(2)、锥镜(8)、透镜I(9)和透镜II(11);所述成像系统包括显微物镜(14)。
4.根据权利要求3所述的使用锥镜实现暗场显微及荧光显微的装置,其特征在于:所述光源系统包括白光照明光源(1)或荧光激发光光源(4);所述荧光激发光光源(4)是激光器。
5.根据权利要求3所述的使用锥镜实现暗场显微及荧光显微的装置,其特征在于:所述光源系统包括荧光激发光光源(4)和设置在荧光激发光光源(4)前方的滤光片(5);所述荧光激发光光源(4)是高压汞灯。
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