[发明专利]透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材无效
申请号: | 200710307345.1 | 申请日: | 2007-12-27 |
公开(公告)号: | CN101225263A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 松田政幸;熊泽光章;平井俊晴 | 申请(专利权)人: | 触媒化成工业株式会社 |
主分类号: | C09D7/12 | 分类号: | C09D7/12;C09D183/00;C09D133/04;G02B1/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 形成 涂料 基材 | ||
1.透明被膜形成涂料,包括:与基体形成成分的亲和性互不相同的低折射率微粒及高折射率微粒、基体形成成分、聚合引发剂和溶剂形成,其特征在于,低折射率微粒及高折射率微粒都以硅烷偶联剂进行了表面处理,经表面处理的低折射率微粒(A)的折射率(nA)在1.20~1.45的范围内,平均粒径在5~200nm的范围内,表面电荷量(QA)在5~80μeq/g的范围内,经表面处理的高折射率微粒(B)的折射率(nB)比(nA)高,平均粒径在0.5~5μm的范围内,表面电荷量(QB)在25~100μeq/g的范围内,低折射率微粒(A)的浓度以固体成分计在0.1~10重量%的范围内,高折射率微粒(B)的浓度以固体成分计在0.1~10重量%的范围内,基体形成成分以固体成分计其浓度在1~30重量%的范围内。
2.如权利要求1所述的透明被膜形成涂料,其特征在于,前述低折射率微粒(A)的表面电荷量(QA)和前述高折射率微粒(B)的表面电荷量(QB)的差值(QB)-(QA)在20~95μeq/g的范围内。
3.如权利要求1或2所述的透明被膜形成涂料,其特征在于,前述基体形成成分由亲水性基体形成成分和疏水性基体形成成分形成,亲水性基体形成成分以固体成分计的浓度(CMA)和疏水性基体形成成分以固体成分计的浓度(CMB)的浓度比(CMA)/(CMB)在0.01~1的范围内。
4.如权利要求3所述的透明被膜形成涂料,其特征在于,前述亲水性基体形成成分为以下述式(1)表示的有机硅化合物或它们的水解产物、水解缩聚物和/或具有亲水性官能团的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂,
SiX4 (1)
式中,X表示碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢;
前述疏水性基体形成成分为以下述式(2)表示的有机硅化合物或它们的水解产物、水解缩聚物和/或具有疏水性官能团的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂,
Rn-SiX4-n (2)
式中,R为碳数1~10的无取代或取代烃基,可以相同或不同,X表示碳数1~4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢,n表示1~3的整数。
5.如权利要求3或4所述的透明被膜形成涂料,其特征在于,前述亲水性官能团为选自羟基、氨基、羧基、磺基、环氧丙基的1种以上,前述疏水性官能团为选自(甲基)丙烯酰基、烷基、苯基、尿烷基、CF2基的1种以上。
6.如权利要求1~5中的任一项所述的透明被膜形成涂料,其特征在于,前述溶剂为具有50~100℃的沸点的溶剂(A)和具有超过100℃、200℃以下的沸点的溶剂(B)的混合溶剂,混合溶剂中的溶剂(A)的比例在50~90重量%的范围内,溶剂(B)的比例在10~50重量%的范围内。
7.带透明被膜的基材,它是在基材上形成了表面具有凹凸的透明被膜的带透明被膜的基材,其特征在于,透明被膜由经表面处理的低折射率微粒(A)、经表面处理的高折射率微粒(B)和基体成分形成,经表面处理的低折射率微粒(A)集中存在于透明被膜的上部并构成层,经表面处理的高折射率微粒(B)集中存在于透明被膜的下部,透明被膜的平均膜厚在1~10μm的范围内,透明被膜的凸部的平均高度(T凸)和凹部的平均高度(T凹)的差值(T凸)-(T凹)在30~1500nm的范围内。
8.如权利要求7所述的带透明被膜的基材,其特征在于,透明被膜中的经表面处理的低折射率微粒(A)的折射率(nA)在1.20~1.45的范围内,平均粒径在5~200nm的范围内,经表面处理的高折射率微粒(B)的折射率(nB)比(nA)高,平均粒径在0.5~5μm的范围内,经表面处理的低折射率微粒(A)的含量以固体成分计在1~30重量%的范围内,经表面处理的高折射率微粒(B)的含量以固体成分计在5~70重量%的范围内。
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