[发明专利]液晶显示装置及其制造方法

权利要求书

1、一种制造液晶显示装置的方法，该方法包括：

提供被划分成像素部分、数据焊盘部分和选通焊盘部分的第一基板；

通过第一掩模工艺在所述第一基板的所述像素部分处形成栅极和选通线；

在所述第一基板上形成栅绝缘膜；

通过第二掩模工艺在所述第一基板的所述像素部分处形成有源图案以及源极和漏极，并形成与所述选通线交叉以限定像素区的数据线；

在所述第一基板上形成钝化层；

通过第三掩模工艺在所述钝化层上形成感光膜图案，该感光膜图案包括具有第一厚度的第一感光膜图案和具有第二厚度的第二感光膜图案；

通过使用所述感光膜图案作为掩模选择性地去除所述钝化层的一部分，以形成曝露出所述漏极的一部分的第一接触孔；

去除所述第一和第二感光膜图案的一部分，以去除所述第二感光膜图案并形成具有第三厚度的第三感光膜图案；

在所述第一基板的整个表面上形成透明导电膜；

去除所述第三感光膜图案以及该第三感光膜图案上的导电膜，以形成通过所述第一接触孔与所述漏极电连接的像素电极；以及

接合所述第一基板和第二基板。

2、根据权利要求1所述的方法，该方法还包括：

通过使用所述第一掩模工艺在所述第一基板的所述选通焊盘部分处形成选通焊盘线。

3、根据权利要求1所述的方法，该方法还包括：

通过使用所述第二掩模工艺在所述第一基板的所述数据焊盘部分处形成数据焊盘线。

4、根据权利要求3所述的方法，该方法还包括：

通过使用所述感光膜图案作为掩模选择性地去除所述钝化层的一部分，以形成曝露出所述数据焊盘线的一部分的第二接触孔。

5、根据权利要求2所述的方法，该方法还包括：

通过使用所述感光膜图案作为掩模选择性地去除所述钝化层的一部分，以形成曝露出所述选通焊盘线的一部分的第三接触孔。

6、根据权利要求4所述的方法，该方法还包括：

去除所述第三感光膜图案以及该第三感光膜图案上的所述导电膜，以形成通过所述第二接触孔与所述数据焊盘线电连接的数据焊盘电极。

7、根据权利要求5所述的方法，该方法还包括：

去除所述第三感光膜图案以及该第三感光膜图案上的所述导电膜，以形成通过所述第三接触孔与所述选通焊盘线电连接的选通焊盘电极。

8、根据权利要求1所述的方法，该方法还包括：

通过所述第一掩模工艺在所述第一基板的所述像素部分处形成公共线。

9、根据权利要求8所述的方法，该方法还包括：

通过使用所述第一掩模工艺形成与所述公共线直接电连接的公共电极。

10、根据权利要求8所述的方法，其中，所述栅极、所述选通线和所述公共线由不透明导电材料制成。

11、根据权利要求9所述的方法，其中，所述公共电极由透明导电材料制成。

12、根据权利要求9所述的方法，其中，所述公共电极被形成为框形形状。

13、根据权利要求9所述的方法，其中，所述像素电极被形成为框形形状。

14、根据权利要求13所述的方法，其中，所述像素电极包括多个狭缝。

15、根据权利要求14所述的方法，其中，所述像素电极的所述多个狭缝被形成为具有特定角度并基于所述公共线彼此对称。

16、根据权利要求1所述的方法，其中，使用半色调掩模来形成所述感光膜图案。

17、根据权利要求1所述的方法，其中，当使用正型光刻胶时，所述第一厚度比所述第二厚度厚。

18、根据权利要求1所述的方法，其中，当将特定部分去除等于所述第二感光膜图案的厚度的量时，所述第一感光膜图案形成所述第三感光膜图案。

19、根据权利要求1所述的方法，其中，通过使用剥离工艺去除所述第三感光膜图案以及形成在该第三感光膜图案上的所述导电膜。

20、根据权利要求19所述的方法，其中，通过所述剥离工艺使用剥离剂与所述导电膜一起去除其上形成有所述导电膜的所述第三感光膜图案。