[实用新型]基板处理装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及对半导体晶片及液晶显示装置用的玻璃基板(以下简称为基板)实施清洗、干燥等规定处理的基板处理装置及其控制装置，特别涉及在执行处理之前预先生成时序表的技术。

背景技术

当前，作为这种装置，可以举出下述装置，即，在由具有用于对基板实施处理的多个处理部的基板处理装置对多个批次进行处理时，控制部根据包括多个处理工序在内的工艺处方，为了由各处理部依次处理各个批次而确定各批次的处理顺序(例如参照专利文献1)。

这种基板处理装置，由于在实际开始对批次的处理之前，已经确定了用哪个处理部在哪个时刻处理哪个批次，因而可以高效地配置批次，提高基板处理装置的运转率。

然而，在基板处理装置具有由调整到高温的药液处理基板的处理部的情况下，由于如果在该处理部中从最开始进行药液的调温，则从常温达到规定温度会需要很长时间，因而设置并不直接参与基板处理的“预备单元”，预先在此进行调温等准备处理。

专利文献1：特开2002-341923号公报

发明内容

然而，在具有这种构成的现有例的情况下，存在下述问题。

也就是说，现有的装置并不对预备单元生成时序表，具体而言，在按照预先生成的时序表执行处理时，将由使用高温药液的处理部中的处理的前一阶段的处理部进行处理作为事件，开始由预备单元进行的调温。因此，尽管希望通过在预先生成时序表后开始处理来提高运转率，但在使用使用了高温药液的处理部的情况下，由于涉及事件驱动的动作，因而存在运转率往往提高不大的问题。

本实用新型正是鉴于这种问题而提出的，目的在于提供一种基板处理装置，其通过将预备单元中的准备处理纳入时序表，使得在进行处理液的准备处理的情况下，也可以提高装置的运转率。

本实用新型为了实现上述目的，采用下述结构。

即，技术方案1所述的实用新型是一种基板处理装置，其具有：多个处理部，其用于对基板进行处理；预备单元，其进行在处理部中使用的处理液的准备；以及控制部，其特征在于，前述控制部具有：时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表；以及预备单元时序安排部，其与时序安排部连接，参照前述时序安排部生成的时序表，生成前述预备单元的时序表，以使前述预备单元中的准备处理所需时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。

根据技术方案1所述的实用新型，控制部使预备单元中用于进行处理部中使用的处理液的准备的准备处理所需的时间与各批次中使用的前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。因此，在处理部中使用处理液时，预备单元中的准备处理已经结束，可以防止因预备单元的准备处理等待造成时序表的延迟，能够提高装置的运转率。

此外，在本实用新型中，优选前述处理部具有药液处理部，其利用加热到规定高温的药液处理基板，前述预备单元具有药液处理部，其将药液预先调整到规定高温。(技术方案2)。即使将常温的药液调整到规定的高温需要很长时间，使其稳定在规定温度也需要很长时间，通过不由处理部进行从常温开始的调温，而是委托给预备单元进行，可以高效进行调温。

此外，在本实用新型中，优选具有多个前述预备单元，各预备单元中的准备处理在时间上一部分重叠。(技术方案3)。在存在多个预备单元的情况下，通过允许在时序表上重叠配置，可以高度灵活地配置时序表中的预备单元的准备处理，因而，可以更有效地进行处理。

此外，技术方案4所述的实用新型是一种基板处理装置，具有：第1处理部；与前述第1处理部不同的第2处理部，其可以实施与前述第1处理部相同的处理；存储部，其存储包括多个处理工序的工艺处方；以及控制部，其与前述存储部连接，其特征在于，前述第2处理部具有药液处理部，其进行前述第1处理部中使用的处理液的准备，前述控制部具有：第1处理部时序安排部，其根据前述存储部中的包括多个处理工序的工艺处方，生成第1处理部的时序表；以及第2处理部时序安排部，其与前述第1处理部时序安排部连接，参照前述第1处理部时序安排部生成的时序表，生成前述第2处理部的时序表，以使前述第2处理部中的准备处理所需时间与前述第1处理部的使用定时配合而提前进行配置。

根据技术方案4所述的实用新型，控制部使在具有预备单元功能的第2处理部中用于进行第1处理部中使用的处理液的准备的准备处理所需的时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。因此，在第1处理部中使用处理液时，第2处理部(预备单元)中的准备处理已经结束，可以防止因第2处理部(预备单元)的准备处理等待造成的时序表延迟，能够提高装置的运转率。