[实用新型]永磁铁氧体磁瓦湿压磁场成型凹模无效
申请号: | 200720004327.1 | 申请日: | 2007-02-01 |
公开(公告)号: | CN200991945Y | 公开(公告)日: | 2007-12-19 |
发明(设计)人: | 万遥;刘世利 | 申请(专利权)人: | 上海龙磁电子科技有限公司 |
主分类号: | B28B3/26 | 分类号: | B28B3/26 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人: | 吴宝根 |
地址: | 201517上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 永磁 铁氧体 磁瓦湿压 磁场 成型 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种成型模具,尤其是一种永磁铁氧体磁瓦湿压磁场成型模具。
背景技术
目前,永磁铁氧体磁瓦湿压磁场成型模具由上模(吸水板)、凹模、下凸模组成,凹模的结构为在型腔的弧形面单面单孔注料,弧形与的弧线与平面直接连接无过渡斜线,脱模斜度多为0.5°~1°.然而采用此种结构易在成型弧度θ>90°的磁瓦时,易造成如下缺陷:1、注料不均匀造成生坯软边、软角,成型合格率低,并在烧结后产生开裂不良;2、弧形两边比弧顶部位磁场弱,使挤压过程中料浆向弧顶位集聚也造成软边、软角,成型合格率低,并在烧结后产生开裂不良;3、由于脱模斜度小易产生刀口裂等不良现象.
发明内容
本实用新型是要解决现有成型模具在压制成型凹模弧度θ>90°的磁瓦时,容易产生烧结开裂不良的缺陷,成型合格率低,生产成本高等技术问题,而提供一种永磁铁氧体磁瓦湿压磁场成型凹模。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:
一种永磁铁氧体磁瓦湿压磁场成型凹模,包括两端面上设有弧形凸台的型腔套,模具基体,型腔套与模具基体固定连接。型腔套的弧形凸台的两面上各开有三个注料孔;弧形凸台的两端弧形尾部各设有一个向下斜面。
注料孔到型腔套顶部的垂直距离是成型生坯厚度的1.3~2.0倍。注料孔的截面积小于注料孔的截面积的70%。凹模的型腔套弧度θ>90°。斜面的角度α为45°~70°,斜面的长度为4~12mm。型腔套的脱模斜度β为1°~3°,β1为0.5°~1.5°。
本实用新型与现有成型模具相比,将现有模具的凹模在弧形顶部单面开一个注料孔的方式改为在弧形顶部及两侧双面各开三个注料孔的方式.尤其在弧形凸台下面开的两个注料孔后加强了弧底部的注料压力,这样提高了料浆注入型腔的均匀性,使成型的生坯密度均匀减少软边软角不良。
本实用新型在弧形凸台尾部设有的向下延伸斜面的结构,配合强导磁材料制成的上模(吸水板)和强弱导磁材料复合而成的下凸模,同时提高了料浆成型为生坯过程中的粒子的径向取向度.起到了提高磁瓦磁性能的作用,并提高料浆挤压成型过程中的密度均匀性,使成型的生坯密度均匀,进一步解决了软边软角不良和烧结后产品开裂的不良;同时提高了料浆成型为生坯过程中的粒子的径向取向度,起到了提高磁瓦磁性能的作用.
本实用新型将现有模具的凹模的脱模斜度加大并将成型面抛光成光滑面可以减小脱模阻力,解决现有模具经常出现的刀口裂不良现象。
附图说明
图1是本实用新型的结构主视图;
图2是图1的俯视图;
图3是图1的左剖视图。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步的说明。
如图1至3所示,永磁铁氧体湿压磁场成型模具的凹模,由型腔套2和基体3复合而成,两者均为弱导磁材料,型腔套2为高耐磨高硬度材料;在型腔套2的两个弧形凸面9下面各开三个注料孔4,5,6,,注料孔到型腔顶部的垂直距离等于1.3~2.0倍成型生坯8厚度;注料孔5,6开腔孤形面的两侧;注料孔5,6的截面积小于注料孔4的截面积的70%;其弧形的构造特征为在弧形凸面9尾部设有一斜面7和平面连接,斜面7的角度α为45°~70°;斜面的长度为4~12mm;型腔的脱模斜度β为1°~3°,β1为0.5°~1.5°。
在使用时,将凹模安装在模架上,和上模、下凸模、配料板等配件一起组成一付完整的模具,然后将超细铁氧体料浆注入模具,通过挤压使产品成型.在注料和挤压过程中进行充磁,料浆通过注料孔4,5,6均匀的注入型腔,通过凹模弧形尾部的斜线构造配合上模和下凸模使型腔磁场分布更加均匀合理,由此使压制成型的坯体密度均匀一致,在脱模时由于型腔脱模斜度β和β1的构造,使脱模时坯体和型腔的脱模阻力减小,减少了坯体的内部缺陷.在注料和挤压过程中,由于有磁场的存在原料中的微粒规则排列,待其完全成型后进行反向充磁,使坯体的磁性消失,以备使用。
为了提高产品的品质和模具的使用寿命,作为优选,凹模基体和型腔套均由弱导磁材料构成,型腔套由高硬度高耐磨的硬质合金材料构成;(有时在开小批量订单的模具的凹模时,为了节省成本凹模的基体和型腔套为一体的弱导磁材料(比如:弱导磁的不锈钢,50Mn钢,70Mn钢和其它无磁钢等构成)。型腔套2的成型面要进行抛光,其表面粗糙度参数Ra为0.2~0.6μm。
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