[实用新型]真空吸附式工作平台结构

权利要求书

1.一种真空吸附式工作平台结构，其特征在于，包括：

一下本体，该下本体内设有多个流道，该下本体顶面设置有多个沟槽，所述沟槽沿纵向及横向延伸，所述流道与所述沟槽相通；以及

一上本体，该上本体与该下本体锁固结合，该上本体设置有多个吸气孔，所述吸气孔贯穿该上本体顶面及底面，所述吸气孔与所述沟槽相对应。

2.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，该下本体四侧边各设一有长形凹槽，该凹槽下缘各形成有一固定部。

3.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，该下本体内的多个流道包含有第一流道及第二流道，所述第一流道沿水平向延伸，所述第一流道沿纵向及横向的设于该下本体内部，所述第二流道设于对应于第一流道的沟槽中，所述第二流道沿垂直向延伸，所述第二流道由所述沟槽贯穿至所述第一流道。

4.如权利要求3所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，所述第一流道由所述下本体一侧贯穿至相对的另一侧，所述第一流道两端分别形成有开口，并连接有塞体。

5.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，所述流道连接有一控制阀及一抽气泵。

6.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，所述流道连接有一泄气阀。

7.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，所述流道连接有一压力表。

8.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，该下本体顶面形成有一凹陷区，该上本体底面形成有一突出部，该突出部边缘设有倒角，该上本体的突出部配合于该下本体的凹陷区。

9.如权利要求8所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，所述吸气孔沿垂直向贯穿，所述吸气孔由该上本体顶面贯穿至该突出部底面。

10.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，所述吸气孔各包含有一小孔及一大孔分设于上部及下部。

11.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，该下本体设有多个第一锁固孔，所述第一锁固孔以阵列方式间隔的设置于该下本体上，该上本体设有多个与第一锁固孔相对应的第二锁固孔，该上本体与该下本体以多个锁固件锁固结合，所述锁固件上各套设有一O形环，所述锁固件穿过该下本体的第一锁固孔，螺接于该上本体的第二锁固孔。

12.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，所述吸气孔以阵列方式间隔的排列于该上本体。

13.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，该上本体设有多个定位孔，所述定位孔选择性的插设有定位销。

14.如权利要求1所述的真空吸附式工作平台结构，其特征在于，该上本体与该下本体之间设置有一密封垫片。