[实用新型]液晶屏清洁设备无效

专利信息
申请号: 200720040906.1 申请日: 2007-07-19
公开(公告)号: CN201064785Y 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 庄添财 申请(专利权)人: 庄添财
主分类号: B08B11/00 分类号: B08B11/00;B08B7/00;B08B7/04;B08B1/00;B08B3/12
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 孙仿卫
地址: 215331江苏省昆山*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 液晶屏 清洁 设备
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种液晶屏清洁设备,属于液晶显示器件制造领域。

背景技术

工业上在生产半导体、微处理器、液晶显示类产品或精密仪器和光学产品时,通常需要在无尘度要求较高的自动化流水线上进行,而这些产品的零组件在生产前或装配前通常需要进行清洁。以液晶显示模组的生产为例,液晶屏在组装前需要对其两侧的金属引脚进行清洁,现有的清洁设备通常具有超声波清洗装置和带清洁装置,其清洁效果不佳,在液晶屏的组装过程中液晶屏的金属引脚与后续的电路板容易发生虚焊或连接不牢。特别是对于金属引脚上残留的指纹,传统的超声波清洗和带清洁装置均无法彻底去除金属引脚上的油脂膜和氯化钠等,长时间以后,油脂膜和氯化钠等物质将金属引脚腐蚀,致使液晶显示器成品出现亮线等显示异常现象。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种液晶屏清洁设备,其能够更好的清除液晶屏上的有机污染物。

本实用新型的技术方案是:一种液晶屏清洁设备,包括:机架、可移动地设置在所述的机架上的用于承载和输送液晶屏的工作台,所述的机架上沿液晶屏的行进路线依次设置有用于清洁液晶屏的超声波清洁装置和带清洁装置,所述的带清洁装置的前侧还设置有等离子清洗装置。

所述的等离子清洗装置具有外电极、内电极、设置在所述的内电极与所述的外电极之间的绝缘层,所述的外电极具有可导入处理气体的内腔,所述的内电极设置在该内腔中,并且所述的绝缘层位于所述的外电极内壁的上部,所述的外电极的底部开有与所述的内电极正对的开口,所述的开口位于所述的工作台的上方。

本实用新型与现有技术相比具有如下优点:本实用新型利用等离子清洗装置在液晶屏的金属引脚处清洁,可清除金属表面的油脂、油污等有机物及氧化层,使其在进行粘胶和焊接前,经处理得到完全洁净和无氧化层的表面,使粘胶和焊接的效果更好,还可避免由指纹或污染物引起的金属引脚被腐蚀的隐患,进一步提高产品的合格率。

附图说明

附图1为本实用新型的主视图;

附图2为本实用新型的等离子清洗装置的原理示意图;

其中:1、机架;2、带清洁装置;21、清洁带;3、超音波清洁装置;4、等离子清洗装置;41、外电极;42、内电极;43、内腔;44、开口;45、绝缘层;46、等离子束;47、进气孔;5、工作台。

具体实施方式

参见附图1至附图2,一种液晶屏清洁设备,包括:机架1、可移动地设置在所述的机架1上的用于承载和输送液晶屏的工作台5,所述的机架1上沿液晶屏的行进路线依次设置有用于清洁液晶屏的超声波清洁装置3和带清洁装置2,工作台5承载着待清洁的液晶屏依次经过超声波清洁装置3和带清洁装置2,对液晶屏的金属引脚进行清洁。

所述的带清洁装置2的前侧(附图1中左侧为“前”,右侧即为“后”)还设置有等离子清洗装置4,所述的等离子清洗装置4具有外电极41、内电极42、设置在所述的内电极42与所述的外电极41之间的绝缘层45,所述的外电极41具有可导入处理气体的内腔43,所述的内电极42设置在该内腔43中,并且所述的绝缘层45位于所述的外电极41内壁的上部,所述的外电极41的底部开有与所述的内电极42正对的开口44,所述的开口44位于所述的工作台5的上方。

在本实用新型进行工作时,通过进气口47向内腔43中充入氮气或洁净的压缩空气作处理气体,由于外电极41内壁的上部设置有绝缘层45,而内电极42会在与其最接近的放电点之间形成等离子柱46,因此等离子柱46的行进方向会朝向外电极41的底部开口44处,等离子柱46穿过内腔43,并可在开口44附近区域射出等离子,因此工作台5承载着液晶屏在等离子清洗装置4的下方经过时,液晶屏的表面被等离子轰击,从而可将污物去除,并使液晶屏的金属引脚裸露出完全洁净和无氧化层的表面。

等离子体清洗技术是一种干法清洗技术,从根本上防止了二次污染,其可对油污、水痕、指纹、有机污染物、硅胶等进行超精密清洗,还可对工件表面进行改性,使其具有更好的粘合性、化学活性等。因此本实用新型可清除金属引脚表面的油脂、油污等有机物及氧化层,使其在进行粘胶和焊接前,经处理得到完全洁净和无氧化层的表面,使粘胶和焊接的效果更好,还可避免由指纹或污染物引起的金属引脚被腐蚀的隐患,进一步提高产品的合格率。

在实际工作时,一般选择氮气作为处理气体,氮气流量为10~30L/Min,气体压力大于3.20kg/cm2;若选用洁净压缩空气作处理气体,一般气体流量大于400L/Min,气体压力大于5.5Kg/cm2;工作台5距离等离子清洁装置4的距离为3~10mm范围,处理速度50~200mm/s。

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