[实用新型]八十一个刻面圆形钻石无效

专利信息
申请号: 200720051523.4 申请日: 2007-05-17
公开(公告)号: CN201108098Y 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 张振宇 申请(专利权)人: 佛山市顺德区伦教首饰钻石加工厂
主分类号: A44C17/00 分类号: A44C17/00
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 代理人: 刘孟斌
地址: 528308广东省佛*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 八十 一个 圆形 钻石
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种首饰钻石。

背景技术

金刚石具有很高的折射率和很强的色散,表面泛有典型的金刚光泽,天然金刚石中仅有约20%的宝石级原石经过打磨师的精雕细琢,才能发出无与伦比的彩虹般绚烂夺目的光芒。备受青睐的五十七个刻面“八心八箭”琢型虽然尽善尽美的展现了打磨师的精湛工艺技术。钻石是一种价格昂贵、无法重新塑造的自然资源,一般情况下,每克拉宝石级原矿石的产成率约为三分之一。但是由于刻面较少,并不能最大程度的展现钻石的火彩和明亮度,因此,如何在保证钻石的产成率的前提下,合理有效的提高钻石的光学效果,展现钻石最璀璨闪耀的光芒,是一直难以解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于解决上述技术问题,而提供一种在保证钻石产成率的前提下,提高其光学效果的钻石。

本实用新型的目的是这样实现的:

八十一个刻面圆形钻石,钻石本体具有冠部和亭部,所述冠部上设有十个冠上刻面、十个冠下刻面、二十个上腰小刻面和十个星小刻面,亭部上设有十个亭主刻面和二十个下腰小刻面;所述钻石本体的台宽比为56%~59.9%,冠高比为13.51%~15.5%,全深比为56%~64%,冠下刻面角为33.5%-35.5%,亭角为39.5°~41.5°,边厚为1.5%~4%。

本实用新型还可以采用以下技术措施解决:

作为优选方式,所述钻石本体上的刻面采用中心对称、上下对应的方式均匀分布在钻石的冠部和亭部。

所述钻石本体的台宽比为56%,冠高比为13.51%,全深比为56%,冠下刻面角为33.5%,亭角为39.5°。

所述钻石本体的台宽比为59.9%,冠高比为15.5%,全深比为64%,冠下刻面角为35.5%,亭角为41.5°。

所述钻石本体的边厚为1.5%。

所述钻石本体的边厚为4%。

本实用新型的有益效果是:

本实用新型是在现有的五十七个刻面的“八心八箭”标准琢型的基础上,增加了共二十四个刻面,并将各个刻面采用中心对称、上下对应的方式均匀分布在钻石的冠部和亭部,既能提高钻石的产成率,又能有效的增加钻石的火彩和明亮度约25%;再者,因其工艺和加工精良,对称性优,故而在切工镜下从钻石正上方切面俯视,可以看到大小一致、光芒璀璨且对称的十支箭,从钻石的正下方则呈现出完美对称、饱满的十颗心——即“十心十箭”的效果。

附图说明

图1是本实用新型钻石的结构示意图

图2是本实用新型钻石的主视图

图3是本实用新型钻石的俯视图

图4是本实用新型钻石的仰视图

具体实施方式

如图1至图4所示,八十一个刻面圆形钻石,钻石本体具有冠部1和亭部2,其特征是,所述冠部1上设有十个冠上刻面101、十个冠下刻面102、二十个上腰小刻面103和十个星小刻面104,亭部2上设有十个亭主刻面201和二十个下腰小刻面202,所述钻石本体上的刻面采用中心对称、上下对应的方式均匀分布在钻石的冠部1和亭部2;所述钻石本体的台宽比d/D为56%~59.9%,冠高比h1/D为13.51%~15.5%,全深比H/D为56%~64%,冠下刻面角a为33.5%-35.5%,亭角B为39.5°~41.5°,边厚c为1.5%~4%。

作为一实施例:上述钻石本体的台宽比d/D为56%,冠高比h1/D为13.51%,全深比H/D为56%,冠下刻面角a为33.5%,亭角B为39.5°。

作为另一实施例:上述钻石本体的台宽比d/D为59.9%,冠高比h1/D为15.5%,全深比H/D为64%,冠下刻面角a为35.5%,亭角B为41.5°。

上述实施例一和二中,所述钻石本体的边厚c为1.5%或4%。

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