[实用新型]一种平面釉下浮雕无效

专利信息
申请号: 200720054962.0 申请日: 2007-08-02
公开(公告)号: CN201065035Y 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 苏乃昌 申请(专利权)人: 苏乃昌
主分类号: B44C5/04 分类号: B44C5/04;B44C3/06;B44C1/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 528000广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 平面 浮雕
【权利要求书】:

1.一种平面釉下浮雕,包括平面坯体(1),所述平面坯体(1)面上成形有凹陷的浮雕图案(10),其特征在于,所述平面坯体(1)上填有透明材料层(2),透明材料层(2)填平浮雕图案的凹陷。

2.如权利要求1所述浮雕,其特征在于,所述浮雕图案(10)设置于平面坯体(1)的中央。

3.如权利要求1所述浮雕,其特征在于,所述浮雕图案(10)延伸至平面坯体(1)的边缘。

4.如权利要求3所述浮雕,其特征在于,所述延伸至平面坯体(1)边缘的浮雕图案(10)其中的坯体(1)边缘处凹陷部分保留1至3毫米的窄边(11)。

5.如权利要求1至4任一项所述浮雕,其特征在于,所述透明材料层(2)为釉,通过烧制与平面坯体(1)熔成一体。

6.如权利要求1至4任一项所述浮雕,其特征在于,所述透明材料层(2)为玻璃,通过烧制与平面坯体(1)熔成一体。

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