[实用新型]一种平面釉下浮雕无效
申请号: | 200720054962.0 | 申请日: | 2007-08-02 |
公开(公告)号: | CN201065035Y | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
发明(设计)人: | 苏乃昌 | 申请(专利权)人: | 苏乃昌 |
主分类号: | B44C5/04 | 分类号: | B44C5/04;B44C3/06;B44C1/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528000广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 平面 浮雕 | ||
1.一种平面釉下浮雕,包括平面坯体(1),所述平面坯体(1)面上成形有凹陷的浮雕图案(10),其特征在于,所述平面坯体(1)上填有透明材料层(2),透明材料层(2)填平浮雕图案的凹陷。
2.如权利要求1所述浮雕,其特征在于,所述浮雕图案(10)设置于平面坯体(1)的中央。
3.如权利要求1所述浮雕,其特征在于,所述浮雕图案(10)延伸至平面坯体(1)的边缘。
4.如权利要求3所述浮雕,其特征在于,所述延伸至平面坯体(1)边缘的浮雕图案(10)其中的坯体(1)边缘处凹陷部分保留1至3毫米的窄边(11)。
5.如权利要求1至4任一项所述浮雕,其特征在于,所述透明材料层(2)为釉,通过烧制与平面坯体(1)熔成一体。
6.如权利要求1至4任一项所述浮雕,其特征在于,所述透明材料层(2)为玻璃,通过烧制与平面坯体(1)熔成一体。
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