[实用新型]一种切削液的净化装置有效

专利信息
申请号: 200720055268.0 申请日: 2007-08-07
公开(公告)号: CN201102955Y 公开(公告)日: 2008-08-20
发明(设计)人: 熊伟强 申请(专利权)人: 熊伟强
主分类号: C10M175/06 分类号: C10M175/06
代理公司: 东莞市华南专利商标事务所有限公司 代理人: 张明
地址: 523039广东省东莞市万江莞穗大*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 切削 净化 装置
【说明书】:

技术领域:

本实用新型涉及机械加工辅助设备领域,尤其指一种切削液的净化装置。

背景技术:

水溶性金属切削液相对油溶性切削油有价廉、安全和卫生等优点,所以渐渐取代油性切削油,全球出现水长油降的趋势。而水溶性切削液存在着使用寿命短的问题。而延长切削液的使用寿命最重要的是使用管理,而其中最关键的是如何让切削液干净,并破坏细菌生存环境。机床设备在工作过程中会有大量导轨油、主轴油、液压油以及铁屑、灰尘等各种杂物混入切削液,这其中包含大量的细菌微生物,所有这些杂质都是细菌大量繁殖的食物。导致切削液发臭变质的根本原因就是细菌微生物在切削液中大量生长繁殖的结果。这样将其排放出去也会对环境造成污染。我们知道存在于切削液中的污油及各种杂质是导致切削液腐败变质的最重要根源,如何防止切削液腐败,增长其使用寿命是各生产厂家最关心而又最头痛的问题。

实用新型内容:

本实用新型的目的是针对目前水溶性金属切削液容易腐败变质,使用寿命短的缺点,而设计出一种切削液的净化装置。

为了达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案:

一种切削液的净化装置,它由上室、中室、下室等组成,上室、中室、下室按上中下顺序顺次螺丝连接,所述上室、中室、下室之间至少有一根纳米陶瓷膜渗析管,所述上室顶部设有进液口,所述中室下端设置有洁液出口,所述下室底部设置有处理液出口,纳米陶瓷膜渗析管的上、下两端分别连接进液口、处理液出口。

其中所述中室上端设置有清洗进水口。

其中所述中室上下两端内侧都设置有一固定渗析管的固定板,依次向两外侧安置有管口密封圈、密封圈压盖,密封圈压盖跟固定板螺丝紧固紧压密封圈。

其中所述进液口、洁液出口、处理液出口外端都设置有法兰。

其中所述清洗进水口外端设置有法兰

本实用新型的有益效果在于:将使用后的切削液用水泵经进液口进入净化装置,调节进出口的压力差,例如将处理液出口连接的阀门调小,切削液在渗析管内存在很大的压力,便可以通过纳米陶瓷膜渗析管渗析到中室,可以过滤掉其中的杂质、细菌及油污,通过洁液出口流出,便可以得到清洁可循环再利用的水溶液,所以利用本装置可以延长切削液使用寿命,减少或消除废液排放,有效保护生态环境。

附图说明:

图1为本实用新型的剖面结构示意图

具体实施方式:

下面结合附图对本实用新型做进一步的说明。

见附图1所示,一种切削液的净化装置,它由上室1、中室2、下室3等组成,上室1、中室2、下室3按上中下顺序顺次螺丝连接,所述上室1、中室2、下室3之间至少有一根纳米陶瓷膜渗析管4,纳米陶瓷膜渗析管4是陶瓷材料制作,其管壁可以供水分子渗透、但是油污、杂质等分子不能渗透,故可以起到过滤作用;所述上室1顶部设有进液口11,所述中室2下端设置有洁液出口21,所述下室3底部设置有处理液出口31,纳米陶瓷膜渗析管4的上、下两端分别连接进液口11、处理液出口31。

其中所述中室2上端设置有清洗进水口22。

其中所述中室2上下两端内侧都设置有一固定渗析管4的固定板23,依次向两外侧安置有管口密封圈5、密封圈压盖6,密封圈压盖6跟固定板23螺丝紧固紧压密封圈5。

其中所述进液口11、洁液出口21、处理液出口31外端都设置有法兰。

其中所述清洗进水口22外端设置有法兰。

将使用后的切削液用水泵经进液口11进入净化装置,调节进出口的压力差,例如将处理液出口31连接的阀门调小,使进、出本净化装置的流速存在差别,故可使切削液在纳米陶瓷膜渗析管4内存在很大的压力,纳米陶瓷膜材料有过滤杂质、细菌和油污的功能,所以切削液可以通过纳米陶瓷膜渗析管4渗析到中室2,过滤掉其中的杂质及油污,通过洁液出口21流出,便可以得到清洁可循环再利用的切削液,所以利用本装置可以延长切削液使用寿命,减少或消除废液排放,有效保护生态环境。

在整个系统需要清洁的时候,我们可以通过清洗进水口22泵入清水,增大装置的中室的压力,并将洁液出口31连接的阀门关闭,使清水渗透进入纳米陶瓷膜渗析管4,进行反渗析清洗,原理雷同切削液净化过程,在此不做过多赘述;还可以将洁液出口31作为清水入口进行清洗装置,原理同上不做过多赘述。

当然,以上所述之实施例,只是本实用新型的较佳实例而已,并非来限制本实用新型实施范围,故凡依本实用新型申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本实用新型申请专利范围内。

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