[实用新型]日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置有效
| 申请号： | 200720063533.X | 申请日： | 2007-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN201066238Y | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 聂岳军 | 申请（专利权）人： | 湖南华联瓷业有限公司 |
| 主分类号： | F27B9/36 | 分类号： | F27B9/36;F23D14/84 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 412200湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 日用瓷 还原 隧道窑 低温 氧化 燃烧室 温度 均匀 结构 装置 | ||
1.日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的，其特征在于：在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处设有扩散烧咀火焰，保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道的燃烧室。
2.如权利要求1所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，其特征在于：所述的燃烧室的底面正对窑车台面，烧咀中心正对下火道的中下部。
3.如权利要求1所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，其特征在于：所述的燃烧室的烧咀选用燃气平焰烧咀，火焰长度0.3～0.9m。
4.如权利要求1所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，其特征在于：所述的燃烧室的截面尺寸必需保证以烧咀为中心，直径为300mm的火焰有足够的燃烧空间；燃烧室的出口的张角取45°。燃烧室是直径为350mm～560mm的半圆拱，长度200mm～350mm；燃烧室的大小取决于所选取的燃烧室空间热强度。
5.如权利要求1所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，其特征在于：为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道，在燃烧室出口设置分流装置。
6.如权利要求5所述的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，其特征在于：所述的分流装置是由耐火砖在燃烧室内烧咀的前面设置挡块形成的。
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