[实用新型]一种真空件旋转密封用磁流体密封装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空件旋转密封用磁流体密封装置。

背景技术

为了解决真空件的旋转密封问题，本发明人曾设计过一种专用的磁流体密封装置，该密封装置含有壳体、旋盖、轴承、垫圈、轴套、磁流体密封组件和O形圈；具体应用时，它暴露出了一大弱点，那就是其上部经常有污染物(如酒精、粉尘等)掉下来，从旋盖的缝隙进入轴承和磁流体密封组件部位，最终造成轴承损坏及磁流体失效的恶果，确有改进之必要。

发明内容

本实用新型的目的就是对原有磁流体密封装置的设计进行改进，以较好解决真空件的旋转密封问题。

本实用新型的技术方案是：在原有装置的旋盖上增设有环形凹坑，且凹坑底部接有穿透壳体的斜置排污孔。

具体实施中，上述的斜置排污孔至少有两个。

本实用新型的有益效果是：因为在旋盖上增设了环形凹坑，环形凹坑底部又接有穿透壳体的斜置排污孔，运行中从上面掉下的粉尘、酒精等污染物就会被及时排出磁流体密封装置外，而不至于透过旋盖的缝隙进入轴承及磁流体密封组件部位并造成它们的损伤及失效，真可谓措施虽小但其作用却不能忽视。

附图说明

图1是原有真空件旋转密封用磁流体密封装置的结构示意图。

图2是本实用新型的结构示意图。

图中，1——壳体，2——旋盖，3——轴承，4——垫圈，5——轴套，6——磁流体密封组件，7——O形圈，8——环形凹坑，9——斜置排污孔。

具体实施方式

从图2和图1的对比中可以看出本实用新型与原有技术的差异有两点：其一，在旋盖2上增设有一环形凹坑8；其二，在环形凹坑8下接有穿透壳体1的斜置排污孔9。这样的改进，使得本磁流体密封装置在工作时，从上面掉下的污染物如酒精、粉尘等会先进入旋盖上的环形凹坑8，然后由穿透壳体1的斜置排污孔排放出装置外，从而避免了污染物对轴承和磁流体的损坏，延长了装置的使用寿命。

注意，图2中示出的斜置排污孔有两个。