[实用新型]化学机械抛光设备的清洗装置

权利要求书

1.一种化学机械抛光设备的清洗装置，其特征在于，包括：

输入口，为一封闭腔体，用于接收经化学机械抛光后的晶圆；

超声波清洗池，包含一个灌满清洗液的腔体及其中的超声波发生器，用于通过超声波对晶圆传送臂从输入口传送来的晶圆进行清洗；

第一刷洗池，为一封闭腔体，包含能喷出清洗液的喷淋头及两把清洗刷，用于将清洗液喷淋在晶圆传送臂从超声波清洗池中传送来的晶圆的两个表面并同时对晶圆的两个表面进行刷洗；

第二刷洗池，为一封闭腔体，包含能喷出清洗液的喷淋头及两把清洗刷，用于将清洗液喷淋在晶圆传送臂从第一刷洗池中传送来的晶圆的两个表面并同时对晶圆的两个表面进行刷洗；

干燥间，为一封闭腔体，包含能喷出清洗液的喷淋头和能带动晶圆旋转的晶圆垫片，用于将清洗液喷淋在晶圆传送臂从第二刷洗池中传送来的晶圆的表面，以去除晶圆表面的残留物，通过晶圆垫片带动晶圆旋转，甩走晶圆表面的清洗液，使晶圆干燥；

输出口，为一封闭腔体，将晶圆传送臂从干燥间传送来的晶圆送至干燥晶舟；

干燥晶舟，为半封闭的腔体，开口紧靠输出口的晶圆送出口，用于暂时存放输出口传送的经干燥的晶圆，并传输给化学机械抛光系统的晶圆存放箱。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光设备的清洗装置，其特征在于，所述所述清洁刷为圆柱状中间空心外表面有小突起的刷子。

3.如权利要求1所述的化学机械抛光设备的清洗装置，其特征在于，所述干燥晶舟至少可承载6片晶圆。

4.如权利要求3所述的化学机械抛光设备的清洗装置，其特征在于，所述干燥晶舟可承载7-15片晶圆。