[实用新型]一种高密封真空室装置无效

专利信息
申请号: 200720076915.6 申请日: 2007-12-21
公开(公告)号: CN201140518Y 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 田须然;赵宇 申请(专利权)人: 上海金发科技发展有限公司;广州金发科技股份有限公司
主分类号: B29C47/76 分类号: B29C47/76
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 代理人: 吴泽群
地址: 201714上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 密封 真空 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种高密封真空室装置,具体说,是涉及一种塑料挤出生产中用于真空密封的真空室装置。

背景技术

在塑料挤出生产中,真空脱挥是重要一步。真空脱挥需要真空泵在真空室中形成负压,抽取脱挥气体,而真空室中负压的形成要求真空室具有很高的密封性。现有的真空室装置,其真空室与真空插件通过螺纹连接并固定在真空螺筒上,真空室与真空插件均为金属材质,两者的接触面没有密闭性。因此,实际生产中仅通过螺纹连接,在真空室与真空插件的接触面会产生漏气问题,使真空室中难以形成负压,导致产品不能完全脱挥,对产品质量造成影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术所存在的缺陷,提供一种高密封真空室装置,以解决真空室装置因密封性不好,真空室中难以形成负压,产品不能完全脱挥,导致影响产品质量的问题。

为达到上述目的,本实用新型采取了如下技术方案:

本实用新型提供的高密封真空室装置,包括真空室主体与真空插件,真空室主体与真空插件通过螺纹连接并固定在真空螺筒上,其特征在于:在所述真空室主体的底部设置有凹槽,所述凹槽中嵌有橡胶密封圈。

上述凹槽的形状优选方形或圆形。

上述橡胶密封圈的形状与凹槽相匹配。

上述橡胶密封圈嵌入凹槽后的突出高度为0.5~2.5mm。

与现有同功能真空室装置相比,由于本实用新型的真空室主体的底部设有凹槽,凹槽中嵌有橡胶密封圈,且橡胶密封圈带有一定的弹性,因此本实用新型的真空室主体与真空插件可紧密贴合,大大提高了两者之间的密封性,真空室中容易形成负压,解决了因真空室装置密封性不好导致影响产品质量的问题。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的A-A剖面示意图;

图中:1.真空室主体;2.真空插件;3.真空螺筒;4.凹槽;5.橡胶密封圈。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步详细、完整的说明:

如图1和图2所示:本实用新型提供的高密封真空室装置,包括真空室主体1和真空插件2,真空室主体1与真空插件2通过螺纹连接并固定在真空螺筒3上,在真空室主体1的底部设置有凹槽4,凹槽4中嵌有橡胶密封圈5。

上述凹槽的形状为方形。

上述橡胶密封圈的形状与凹槽相匹配,其嵌入凹槽后的突出高度为0.5~2.5mm。

与现有同功能真空室装置相比,本实用新型结构简单,由于真空室主体的底部设有凹槽,凹槽中嵌有橡胶密封圈,且橡胶密封圈带有一定的弹性,因此本实用新型的真空室主体与真空插件可紧密贴合,大大提高了两者之间的密封性,真空室中容易形成负压,解决了因真空室装置密封性不好导致影响产品质量的问题。

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