[实用新型]用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜无效

专利信息
申请号: 200720080292.X 申请日: 2007-07-13
公开(公告)号: CN201138413Y 公开(公告)日: 2008-10-22
发明(设计)人: 李铭;张彬;戴亚平;范正修;王韬;黄伟 申请(专利权)人: 四川大学;上海激光等离子体研究所
主分类号: G02F1/39 分类号: G02F1/39;G02B5/08
代理公司: 成都科海专利事务有限责任公司 代理人: 刘双兰;严礼华
地址: 610064四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 用于 啁啾 脉冲 放大 光谱 整形 介质 膜结构 反射
【权利要求书】:

1.一种用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,包括透明基板(1),高反射膜系(2),微浮雕结构(3),外层保护层(4),高反射膜系为高折射率膜层(5)与低折射率膜层(6)相互交替组成的多层介质膜系,高反射膜系的高折射率膜层与低折射率膜层均与微浮雕结构紧密搭界。

2.根据权利要求1所述的用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,所述的高折射率膜层(5)与低折射率膜层(6)的厚度均为λ/4,或λ/4奇数倍厚度,或折射率渐变膜层厚度。

3.根据权利要求1所述的用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,所述的微浮雕结构(3)为三角形,或棱角形,或方形,或圆形构成的多种形态结构的衍射元件。

4.根据权利要求1或3所述的用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,所述的微浮雕结构材质为微镜高透射膜系介质,或空气介质(7),或玻璃微浮雕介质(8),或半导体介质(9)。

5.根据权利要求1或2或3所述的用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,所述的微浮雕结构的微镜高透射膜系,其标准的结构是多层介质膜按低折射率膜层(6)与高折射率膜层(5)的顺序周期交替组成。

6.根据权利要求1或2所述的用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,所述高反射膜系(2),其标准的结构是多层介质膜按高折射率膜层(5)与低折射率膜层(6)的顺序周期交替组成。

7.根据权利要求1所述的用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,透明基板(1)是对工作带宽的波长透明物质的膜层为依托基底,要求光学平整度且折射率接近空气,用K9光学玻璃,或石英材料,或针对工作带宽波长透明物质的半导体材料。

8.根据权利要求1所述的用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,所述的反射镜是微镜介质膜结构反射镜的结构反射镜。

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