[实用新型]一种自洁抗光反射结构物无效
申请号: | 200720095356.3 | 申请日: | 2007-02-27 |
公开(公告)号: | CN201017049Y | 公开(公告)日: | 2008-02-06 |
发明(设计)人: | 刘津平;刘文韬 | 申请(专利权)人: | 刘津平 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02B1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300052天津市和平*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 洁抗光 反射 结构 | ||
1.一种自洁抗光反射结构物,其表面或物体具有凹凸结构;其特征在于:该凹凸的深度或高度为0.04~220微米,该凹凹、凸凸或凹凸之间的间距为0.04~120微米,该凹凸的侧面和/或顶底面的粗糙度小于5微米。
2.一种自洁抗光反射结构物,其特征在于:所述的凹凸结构包括棱锥形状、棱柱形状、钻石形状、金字塔形状、菱形状。
3.一种自洁抗光反射结构物,其特征在于:所述的自洁抗光反射结构物的基材包括透明高分子材料,玻璃,疏水性高分子材料、高分子材料基混合物、高分子材料基复合物,表面经疏水性处理的高分子材料、高分子材料基混合物、高分子材料基复合物、玻璃中的一种或多种。
4.一种自洁抗光反射结构物,其特征在于:所述的自洁抗光反射结构物或其表面进而包含至少一种蜡性材料。
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