[实用新型]左右摆式排线结构无效
申请号: | 200720103481.4 | 申请日: | 2007-02-06 |
公开(公告)号: | CN201007989Y | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | 宋行宾;王鹏 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/50 | 分类号: | H01L23/50 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 左右 摆式 排线 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种TAB/COF(驱动芯片集成电路)的排线结构,特别是一种左右摆式排线结构。
背景技术
图5为现有技术TAB/COF排线结构的示意图,引线间距A为27μm,二引线中心间距B为58μm,其特点是窄线均匀设置在引线中心,形成一种中心窄线排列结构。实际产生表明,该排列结构存在切割模具寿命短、易产生边缘毛刺等技术缺陷。
当切割模具依次切割TAB/COF时,切割模具切割窄线的切割位置点基本相同,因此使切割模具切割窄线部位的刀口重复受到磨损,切割模具的使用寿命一般只有100K次左右。如果不及时更换切割模具,已磨损的切割模具就会使切割区域出现边缘毛刺,当边缘毛刺的长度≥15μm时,就会导致相邻的两个引线短路,从而产生X向2亮线(X2 Line)缺陷。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种左右摆式排线结构,有效解决现有排线结构因切割位置点相同降低切割模具使用寿命以及易出现边缘毛刺导致X2Line缺陷等技术问题。
为了实现上述目的,本实用新型提供了一种左右摆式排线结构,TAB/COF基体上相邻二切割区域中至少一个切割区域采用窄线偏离引线的摆式窄线排列结构。
所述摆式窄线排列结构可以为同一切割区域内所有窄线向相同方向偏离引线,也可以为同一切割区域内相邻窄线向相反方向偏离引线。
所述窄线的中心线偏离引线的中心线11μm~15μm,优选为13μm。
本实用新型提出了一种提高切割模具使用寿命以及减少边缘毛刺出现的左右摆式排线结构,通过在相邻二切割区域中采用不同的摆式窄线排列结构,使切割模具的切割点位置依次变换,刀口均匀磨损,从而延长了切割模具的使用寿命,同时切割中减少了边缘毛刺的产生,避免了产品的X2 Line缺陷。本实用新型摆式窄线排列结构可以是左摆式窄线排列结构、右摆式窄线排列结构或左右摆式窄线排列结构,使本实用新型可以通过多种组合结构,最大限度地提高切割模具的使用寿命延长,减少边缘毛刺的产生。实施结果表明,采用本实用新型技术方案后,切割模具的使用寿命延长1倍以上,由现在的100K次延长到200K次,且减少了边缘毛刺的产生,在降低产生成本的同时,避免了由于产生边缘毛刺导致的X2 Line缺陷。
下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
图1为本实用新型左摆式窄线排列结构的结构示意图;
图2为本实用新型右摆式窄线排列结构的结构示意图;
图3、图4为本实用新型左右摆式窄线排列结构的结构示意图;
图5为现有技术TAB/COF排线结构的示意图。
附图标记说明:
1-引线; 2-窄线; 10-TAB/COF基体;
11-引线中心线; 21-窄线中心线。
具体实施方式
第一实施例
图1为本实用新型左摆式窄线排列结构的结构示意图。如图1所示,引线1均匀设置在TAB/COF基体10上,在同一切割区域内所有窄线2向左侧方向偏离,形成本实用新型左摆式窄线排列结构。窄线中心线21和引线中心线11之间距离C为11μm~15μm,优选的距离为13μm。
第二实施例
图2为本实用新型右摆式窄线排列结构的结构示意图,与图1所示结构不同的是,所有窄线2向右侧方向偏离,形成本实用新型右摆式窄线排列结构。窄线中心线21和引线中心线11之间距离C为11μm~15μm,优选的距离为13μm。
第三实施例
图3、图4为本实用新型左右摆式窄线排列结构的结构示意图。如图3、图4所示,引线1均匀设置在TAB/COF基体10上,在同一切割区域内相邻的二窄线2向相反方向偏离,形成本实用新型左右摆式窄线排列结构。对于同位置的二相邻引线(例如位于最左侧的二引线),窄线向靠近方向偏离(如图3所示)和向远离方向偏离(如图4所示)可以形成二种不同位置的结构方案。在该左右摆式窄线排列结构中,窄线中心线和引线中心线之间距离C为11μm~15μm,优选的距离为13μm。当窄线宽度D为4μm~6μm,因此可以形成二相邻窄线的最大距离E为76μm~78μm,而现有技术中心窄线排列结构中二相邻窄线的距离约为43μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200720103481.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。