[实用新型]一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘无效
| 申请号： | 200720108329.5 | 申请日： | 2007-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN201077033Y | 公开（公告）日： | 2008-06-25 |
| 发明（设计）人： | 刘培东;张世波 | 申请（专利权）人： | 刘培东;张世波 |
| 主分类号： | B24D13/14 | 分类号： | B24D13/14 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 张法高 |
| 地址： | 310013浙江省杭州市玉古路1*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 硅片 抛光 整体 陶瓷 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘，其特征在于具有板式陶瓷盘(1)，在板式陶瓷盘(1)上设有陶瓷模板(2)。
2.根据权利要求1所述的一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘，其特征在于所述的陶瓷模板(2)孔内边缘设有塑料、橡胶或树脂材料的防护层。
3.根据权利要求1所述的一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘，其特征在于所述的陶瓷模板(2)孔内的板式陶瓷盘(1)上设有小孔
4.根据权利要求1所述的一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘，其特征在于所述的板式陶瓷盘(1)与陶瓷模板(2)用烧结或平面陶瓷滚珠轴承固定，做成固定式。
5.根据权利要求1所述的一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘，其特征在于所述的板式陶瓷盘(1)与陶瓷模板(2)用螺钉和螺栓固定，做成可拆卸式。
6.一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘，其特征在于具有板式陶瓷盘(1)，在板式陶瓷盘(1)上设有陶瓷凹模(3)
7.根据权利要求6所述的一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘，其特征在于所述的陶瓷凹模(3)内边缘设有塑料、橡胶或树脂材料的防护层。
8.根据权利要求6所述的一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘，其特征在于所述的陶瓷凹模(3)底部设有小孔。
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