[实用新型]精密双面抛光机的气动加载装置

说明书

(一)技术领域

本实用新型涉及抛光机领域，尤其是一种双面抛光机的气动加载装置。

(二)背景技术

原传统研抛机采用单电机带动，参见图1，通过齿轮传动系统实现上抛光盘22、下抛光盘23、内齿圈24、外齿圈25的转动，上下抛光盘与行星轮只有两种速度比，限制了双面抛光加工运动轨迹的变化，缺乏对速度的精确控制。

对于上抛光盘的传动结构，采用气缸加压，加载到上抛光盘的压力可以为轻压或重压，压力不可调节；由于不能精确地控制上抛光盘对工件的压力，工件的抛光精度较低。

(三)实用新型内容

为了克服已有抛光机的上抛光盘加载装置不能调节工作压力、抛光精度低的不足，本实用新型提供一种能够精确控制上抛光盘对工件的压力，有效提升抛光精度的精密双面抛光机的气动加载装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种精密双面抛光机的气动加载装置，包括机架、安装在机架上的气缸，所述气缸带有活塞杆，所述的活塞杆与上抛光盘连接，所述气缸连接用于调节加载压力大小的压力调节阀，所述压力调节阀连接气动气源，在所述的活塞杆与上抛光盘的连接处安装压力传感器；所述的气动加载装置还包括用于根据工件的加工条件制定的加载压力控制曲线控制载荷大小，以及用于各个抛光阶段，接收压力传感器的信号，并将压力传感器的压力值与预设各个抛光阶段的工作压力比较，选择性地向压力调节阀发出增大或减小压力指令的上抛光盘压力控制模块；所述的上抛光盘压力控制模块连接压力调节阀、压力传感器。

作为优选的一种方案：所述的气动加载装置还包括用于检测上抛光盘位置的位移传感器，所述的位移传感器连接用于依照位移传感器的信号判定上抛光盘是否到达工作位置的上抛光盘位置控制模块，所述的位置传感器连接所述上抛光盘位置控制模块。

作为优选的另一种方案：所述气缸包括上室、下室以及活塞，活塞连接活塞杆，所述上室与上气管连通，所述下室与下气管连通，所述的上气管、下气管分别与大气连通、同时与压力调节阀连通。

作为优选的再一种方案：所述压力调节阀的调节装置包括步进电机、偏心机构，所述的步进电机连接上抛光盘压力控制模块的控制端，所述步进电机的输出轴连接偏心机构，所述偏心机构与压力调节阀的阀芯传动连接。

本实用新型的技术构思为：抛光机在非接触抛光时，要将上抛光盘相对工件(在下抛光盘上)浮起数微米；而在接触抛光时要对上抛光盘加载，最大载荷要达一百多公斤力；停止抛光时，则又要将上抛光盘抬起一定高度。

为实现该功能，上抛光盘压力的控制策略通过气动控制系统来实现，主要通过气缸活塞杆的位置变化实现载荷的精确控制。

上抛光盘采用气缸利用高压空气的压力来实现加压。高压空气由上气管进入气缸的上室，推动活塞杆向下移动，上抛光盘浮动连接在气缸活塞杆上，从而实现加工过程中所需压力。高压空气由下气管进入气缸的下室，同时上气管接通大气，从而推动活塞带动连接杆及抛光盘向上移动，即可卸下或检查工件。气缸的工作压力调节通过调节气压系统中的压力调节阀来实现，为精确控制上抛光盘对工件的压力，气缸与抛光盘连接处装一个压力传感器，以形成一个闭环控制，从而实现对气缸的精确控制。

本实用新型的有益效果主要表现在：1、能够精确控制上抛光盘对工件的压力；2、有效提升抛光精度。

(四)附图说明

图1是传统的双面研磨抛光机的结构示意图。

图2是本实用新型的双面抛光机的结构示意图。

图3是抛光机的上抛光盘传动机构的结构图。

图4是气动加载装置的气动控制原理图。

图5是工控机的控制原理图。

(五)具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步描述。

参照图2～图5，一种精密双面抛光机的气动加载装置，包括机架1、安装在机架1上的气缸27，所述气缸27带有活塞杆28，所述的活塞杆28与上抛光盘22连接，所述气缸27连接用于调节加载压力大小的压力调节阀29，所述压力调节阀29连接气动气源，在所述的活塞杆28与上抛光盘22的连接处安装压力传感器30；所述的气动加载装置还包括用于根据工件的加工条件制定的加载压力控制曲线控制载荷大小，以及用于各个抛光阶段，接收压力传感器的信号，并将压力传感器的压力值与预设各个抛光阶段的工作压力比较，选择性地向压力调节阀发出增大或减小压力指令的上抛光盘压力控制模块31；所述的上抛光盘压力控制模块31连接压力调节阀29、压力传感器30。