[实用新型]一种激光装置无效

专利信息
申请号: 200720122093.0 申请日: 2007-08-07
公开(公告)号: CN201156645Y 公开(公告)日: 2008-11-26
发明(设计)人: 谢永灵 申请(专利权)人: 谢永灵
主分类号: H01S3/08 分类号: H01S3/08;H01S3/091;H01S3/16;H01S3/00
代理公司: 深圳市中联专利代理有限公司 代理人: 余显忠
地址: 中国香港九龙红磡鹤圆*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种激光装置,尤指一种可使光泵浦源产生两路激光谐振的激光装置。

背景技术

目前,在现有的激光装置的技术中,其主要强调808nm光泵浦源一次性进入Nd-YV04晶体,就尽可能激发最大的激光能量,一个泵浦源只有一路激光谐振路径;这样,对于激光谐振的腔体长度适应范围较小,增加激光谐振腔体生产的技术难度。

实用新型内容

本实用新型提供了一种激光装置,一个光泵浦源可产生两路激光谐振路径,使激光谐振腔体长度可以有很大适应范围,且降低了激光谐振腔体生产技术难度。

为了实现上述实用新型目的,本实用新型所采用的技术方案为:

一种激光装置,其主要包括:后镜、YV04晶体、Q-SW晶体、前镜及光泵浦源,所述的后镜为平凹镜,光泵浦源的入射点相对YV04晶体端面中心偏离0-2mm。

所述的后镜弧度R=100mm~2000mm,镀膜,一面800~970nm光全透,凹面1050~1380nm光全反射。

所述的YV04晶体:a-cut,0.2%-2%Nd Doped,镀膜:800~970nm1050~1380nm两面全透。

所述的Q-SW晶体为1050-1950nm,光全透。

所述的一种激光装置,其后镜下方还设有后镜调节器。

所述的一种激光装置,其Q-SW晶体下方还设有Q-SW晶体调节器。

所述的一种激光装置,其前镜上方还设有镜片调节器。

所述的一种激光装置,其还包括有:光纤接头、调平行光镜头及聚焦头,所述聚焦头设于后镜前方,调平行光镜头设于聚焦头前方,光纤接头设于调平行光镜头前。

所述的镜头下方还设有镜头调节器。

采用上述结构后,使用时,光泵浦源可产生两路激光谐振路径,一路:光泵浦源入射Nd-YV04晶体产生一路激光;再利用漫反射808nm光产生另一路激光;这样,就可以把提高激光转换,Nd-YV04平均受热。由于有两路激光谐振路径,激光谐振腔体长度(谐振腔体长度指后镜到前镜的距离)可以有很大适应范围:40mn-140mn,这样降低了激光谐振腔体生产技术难度。

附图说明

图1为本实用新型产生双路径谐振腔的结构示意图;

图2为本实用新型使用的结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案,下面结合附图和实施方式对本发明作进一步的详细说明。

参考图1、2所示,其公开了一种激光装置,其主要包括:后镜1、YV04晶体2、Q-SW晶体3、前镜4、光泵浦源5、光纤接头6、调平行光镜头7及聚焦头8,其中:

所述的后镜1为平凹镜,光泵浦源5的入射点相对YV04晶体2端面中心偏离0-2mm。

所述的后镜1的弧度R=100mm~2000mm,镀膜,一面800~970nm光全透,凹面1050~1380nm光全反射。

所述的YV04晶体2:a-cut,0.2%-2%Nd Doped,镀膜:800~970nm1050~1380nm两面全透。

所述的Q-SW晶体3为1050-1950nm,光全透。

所述的一种激光装置,其后镜1下方还设有后镜调节器11,后镜调节器11可调节光路使之与YV04晶体2同一光轴。

所述的一种激光装置,其Q-SW晶体3下方还设有Q-SW晶体调节器31,Q-SW晶体调节器31可调节光路使之破坏激光谐振路径。

所述的一种激光装置,其前镜4上方还设有镜片调节器41,镜片调节器41可调节光路使之与后镜同一光轴。其除了调节光路,还用来反射所有的光,相当是一个开了孔的反射镜,协助产生另一路激光。

所述聚焦头8设于后镜1前方,调平行光镜头7设于聚焦头8前方,光纤接头6设于调平行光镜头7前。

镜头7下方还设有镜头调节器71,所述的镜头调节器71可调节入射光路使之达至最强光输出。

使用时,光泵浦源可产生两路激光谐振路径,一路:光泵浦源入射Nd-YV04晶体产生一路激光5’;再利用漫反射808nm光产生另一路激光5”;这样,就可以把提高激光转换,Nd-YV04平均受热。由于有两路激光谐振路径,激光谐振腔体长度(谐振腔体长度指后镜到前镜的距离)可以有很大适应范围:40mm-200mm,这样降低了激光谐振腔体生产技术难度。

虽然通过实施例描绘了本发明,本领域普通技术人员知道,本发明有许多变形和变化而不脱离本发明的精神,希望所附的权利要求包括这些变形和变化而不脱离本发明的精神。

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